“…Для тиольных фотополимеризующихся сред, содержащих наночастицы SiO 2 , усадка слоя на длине волны излучения лазерного диода (λ = 404 nm) оказалась выше, чем на длине волны λ = 532 nm [64]. Голографические свойства тиольных композиций, содержащих наночастицы SiO 2 , могут быть улучшены за счет оптимизации мономерного состава композиции [65]. Для исследования усадки фотополи-меризующихся композиций использовалась голографи-ческая интерферометрия [66].…”