Vacuum Ultra-Violet Spectroscopy Methods Use for Electron Temperature Measuring in the Peripheral Plasma of Z-Pinch Prodused From Low-Density Deuterated Polyethylen

Abstract

В работе представлены результаты измерения электронной температуры периферийной плазмы дейтерированного Z-пинча по спектрам излучения диагностической добавки железа в диапазоне вакуумного ультрафиолета (ВУФ) на установке «Ангара 5-1». Для регистрации спектра использовался спектрометр скользящего падения с вогнутой дифракционной решёткой. Значение электронной температуры определялось по положению максимума распределения спектра (основываясь на методе, описанном в работах [1, 2]) и по максимальной наблюдаемой степени ионизации железа. Полученные в результате измерений значения электронной температуры периферийной плазмы попадают в диапазон 200-400 эВ в зависимости от параметров эксперимента и области измерения. Ключевые слова: ВУФ-спектроскопия, диагностика плазмы, дейтерированные Z-пинчи, мощный импульсный генератор тока.

Sensitometric Characteristics of the Uf-4 Photographic Film for Its Usage in High Temperature Plasma Euv-Spectroscopy

“…Наиболее часто ис-пользуемой за рубежом фотоплёнкой являлась плёнка Kodak 101-01 [1], российским аналогом которой является фотоплёнка УФ-4 [2]. Примеры использования этих детекторов фотоплёнок для исследования высокотемпературной плазмы можно найти в работах по лазерной плазме [3][4][5][6] и по плазме мощных Z-пинчей [7][8][9][10][11][12][13][14]. Фотоплёнка обладает существенным недостатком -она не является детектором «ре-ального времени», так как требует продолжительной и сложной процедуры проявления и обработки ин-формации.…”

“…Таким образом, фотоплёнка до сих пор является достаточно востребованным детектором на мощ-ных импульсных установках [7][8][9][10][11][12][13][14], а её применение представляет большой интерес, особенно для аб-солютных (количественных) измерений. Целью данной работы являлась калибровка отечественной фо-топлёнки УФ-4, производимой НИИ «Химфотопроект», для проведения абсолютных измерений интен-сивности EUV-излучения высокотемпературной плазмы в диапазоне длин волн λ = 5-19 нм.…”

“…Измерения электрических характеристик с временным разрешением ~1 нс проводились с помощью токового шунта и делителя напряжения. Длительность импульса тока составляла ~20 нс [17][18], которая практически совпадала с длительностью излучения исследуемых плазменных источников [8][9][10][11][12][13][14].…”