Abstracts. Crystals of the copper silicon phosphide were synthesized by the iodine gas transport technique. The x-ray single crystal methods revealed a big superstructure with the lattice parameters a = b = 44.510 and c = 20.772 A Ê and a basic tetragonal substructure with a = 3.7092 and c = 5.1930 A Ê . Analysis of the intensities showed that the superstructure has a 1 / 2 , 1 / 2 , 1 / 2 tetragonal substructure with a = 22.255 and c = 10.386 A Ê . This 1 / 2 , 1 / 2 , 1 / 2 substructure (Cu 47 Si 91 P 144 ) and the basic tetragonal structure (Cu 0.71 Si 1.29 P 2 ) were solved by the direct methods and refined in the I4m2 space group. The phosphide is a semiconductor with a small energy gap of 0.0269(1) eV. The electrical properties are considered in terms of Anderson localization. The density of states was calculated using the extended Hu È ckel tight binding method.
Die modulierte Kristallstruktur und die elektronischen Eigenschaften des Halbleiters Cu 47 Si 91 P 144Inhaltsu È bersicht. Kristalle eines Kupfersiliciumphosphids konnten u È ber einen chemischen Transport mit Jod erhalten werden. Ro È ntgenographische Untersuchungen an Einkristallen ergaben eine ausgedehnte Ûberstruktur mit den Gitterkonstanten a = b = 44.510 und c = 20.772 A Ê der zugrunde liegenden tetragonalen Substruktur mit a = 3.7092 und c = 5.1930 A Ê . Eine Analyse der Intensita È ten der Ûberstruk-tur ergab eine weitere Substruktur mit a = 22.255 und c = 10.386 A Ê . Die Atomanordnungen in dieser 1 / 2 , 1 / 2 , 1 / 2 Substruktur (Cu 47 Si 91 P 144 ) und in der zugrunde liegenden Basisstruktur (Cu 0.71 Si 1.29 P 2 ) konnten u È ber direkte Methoden bestimmt und anschlieûend verfeinert werden (Raumgruppe: I4m2). Die Verbindung ist ein Halbleiter mit einer schmalen Energielu È cke von 0.0269(1) eV. Die elektrischen Eigenschaften wurden im Rahmen der Anderson Lokalisierung betrachtet. Die Zustandsdichten wurden nach dem Extended-Hu È ckel-Tight-Binding Modell berechnet.