Über die Trennung flüchtiger Halogenide durch Oberflächenreaktionen

Abstract

Im Zusammenhang mit der Herstellung reinster Metalle durch thermische Zcrsetzung geeigneter Verbindungen spielt die Trennung und Reinigung fluchtiger Halogenide eine wesentliche Rolle [l] 1). Eine in ihrer Spezifitat und Leistungsfahigkeit wenig untersuchte Trennmoglichkeit bieten selektive Umsetzungen zwischen gasformigen Halogeniden und festen (metallischen) Oberflachen [Z]. Aus der Korrosionsforschung liegt ein reiches Tatsachenmaterial iiber derartige Oberflachenreaktionen vor. Beim Einsatz von Gas/Fest-Reaktionen als Trennmethode interessieren jedoch weniger die festen Korrosionsprodukte als die Veranderungen in der Zusammensetzung der Gasphase. Aus der allgemeinen Formulierung Me,Halq) + Me,(,) Me,Hal + Me,,!) i m cal , den bekannten Versuchsvariablen wie Milieu, Menge der Keaktionsteilnehmer, Reaktionstemperatur, und das Bestehen einer Gleichgewichtslage vorausgesetzt, lassen sich solche Umsetzungen aus den Reaktionsenthalpien berechnen [3] (Tabelle 1).