Über die Darstellung von OF₂ durch Elektrolyse wasserhaltiger HF

Abstract

Bei der Eletrolyse wasserhaltiger HF mit Ni‐Anoden wird OF2 neben O2 und O3 gewonnen. Die OF2‐Bildung erfolgt im Bereich 0% < C H 2O < 20% ab 4 V Zersetzungsspannung und nimmt mit steigender Wasserkonzentration und Spannung ab. Das Maximum der OF2‐Bildung liegt im Bereich von 5–9 V bei 2% Wassergehalt des Eletrolyten und einem OF2‐Gehalt von∼45 Vol.‐% im Anodengas. Unterhalb 2% Wasser erfolgt die Bildung von elementarem fluor als Nebenprodukt. Die OF2‐Bildung ist abhängig von der Ausbildung einer schwarzen Bedeckungsschicht auf der Ni‐Anode, die während einer Induktionsperiode formiert wird. Als ein Bestandteil dieser Schicht konnte K2NiF6 nachgewiesen werden.