2020
DOI: 10.1063/5.0024236
|View full text |Cite
|
Sign up to set email alerts
|

Toward heteroepitaxially grown semipolar GaN laser diodes under electrically injected continuous-wave mode: From materials to lasers

Abstract: III-nitrides based light-emitting diodes and laser diodes (LDs) have shown great success as solid-state lighting sources, but the development of common c-plane (0001) polar GaN emitters is facing limitations due to quantum-confinement Stark effect, efficiency drop, low efficiency at green range, and peak wavelength blue-shift. Efficient semipolar or nonpolar GaN light emitting diodes and LDs have been successfully demonstrated by growing on semipolar or nonpolar free-standing GaN substrates. The small size and… Show more

Help me understand this report

Search citation statements

Order By: Relevance

Paper Sections

Select...
4

Citation Types

0
13
0
13

Year Published

2021
2021
2023
2023

Publication Types

Select...
6

Relationship

0
6

Authors

Journals

citations
Cited by 12 publications
(26 citation statements)
references
References 100 publications
0
13
0
13
Order By: Relevance
“…Применение микроструктурированных чужеродных подложек для синтеза полуполярных слоев GaN является перспективным методом гетероэпитаксии [2,3]. Так, например, структурированная подложка сапфира c плоскостью (22-43) позволила получить светодиоды InGaN(20-21)/GaN с длиной волны излучения 490 nm [4], а структурированная подложка m-Al 2 O 3 позволила синтезировать светодиоды с зеленым цветом свечения InGaN (11)(12)(13)(14)(15)(16)(17)(18)(19)(20)(21)(22) [5].…”
Section: Introductionunclassified
See 4 more Smart Citations
“…Применение микроструктурированных чужеродных подложек для синтеза полуполярных слоев GaN является перспективным методом гетероэпитаксии [2,3]. Так, например, структурированная подложка сапфира c плоскостью (22-43) позволила получить светодиоды InGaN(20-21)/GaN с длиной волны излучения 490 nm [4], а структурированная подложка m-Al 2 O 3 позволила синтезировать светодиоды с зеленым цветом свечения InGaN (11)(12)(13)(14)(15)(16)(17)(18)(19)(20)(21)(22) [5].…”
Section: Introductionunclassified
“…В настоящее время оптоэлектронные устройства на основе GaN/Si в основном базируются на полярных InGaN/GaN-структурах, в которых в активных областях присутствует нежелательное сильное поляризационное поле. Выращивание полуполярных III-нитридных излучателей является одним из возможных решений этой проблемы, поскольку ожидается, что полуполярные и неполярные структуры обладают большим потенциалом в повышении внутренней квантовой эффективности све-тодиодов [7], и в более эффективном внедрении атомов индия, особенно в GaN (11)(12)(13)(14)(15)(16)(17)(18)(19)(20)(21)(22) слои [8].…”
Section: Introductionunclassified
See 3 more Smart Citations