Thermally induced modification of the graphene oxide film on the tantalum surface

Пористый Кремний Как Наноматериал Для Дисперсных Транспортных Систем Направленной Лекарственной Доставки Ко Внутреннему Уху

“…Исследования про-водились в условиях сверхвысокого вакуума порядка 10 −7 Pa при комнатной температуре, в случае использо-вания системы компенсации зарядки образца парциаль-ное давление аргона в аналитической камере составляло 10 −5 Pa. Энергия возбуждающих фотонов составляла 1486 eV, спектры остовных уровней были измерены при энергии пропускания анализатора 20 eV. Поверхно-сти, приготовленные ex situ, адсорбируют из воздуха кислород-и углеродсодержащие примеси [28][29][30], поэто-му непосредственно перед XPS-измерениями проводили очистку исследованных поверхностей методом ионной бомбардировки.…”

“…С уче-том табличных значений чувствительности регистрации XPS-сигнала [30,33], при регистрации максимумов C 1s и O 1s было установлено, что преобладающими атом-ными компонентами являлись углерод с относительной концентрацией более 90% и кислород с относительной концентрацией более 9%. При этом в обоих типах тканей было установлено наличие атомов кремния в концентрации примерно 0.1 и 0.2% для образцов ткани печени и миокарда соответственно.…”

Атомный Состав И Стабильность Монослоев Ленгмюра-Блоджетт На Основе Силоксанового Димера Кватертиофена На Поверхности Поликристаллического Золота

“…Однако из-за малой площади Au электродов область анализа захватывала частично и участки поверхности (SiO 2 )n-Si, не покрытые золотом. При анализе измеренных XPS-спектров использовали библиотеку стандартных XPS-спектров [21] и библиоте-ку производителя оборудования (Thermo Fisher Scientific Inc.), включающую атомные факторы чувствительности регистрации сигнала.…”

“…В нем отчетливо наблюдаются максимумы атомных компонент C 1s (284.5 eV), O 1s (532.4 eV), S 2p (163.3 eV), Au 4 f (83.4 eV) и Si 2s (154.4 eV). С учетом относительных интенсивностей этих XPS максимумов и факторов чувствительности их регистрации [21] отно-сительные концентрации этих пяти атомных компонент составили ∼ 66, 18, 5, 10 и 15% соответственно. По-лученные относительные концентрации атомов Au и Si, характерные для материала подложки, свидетельствуют в пользу того, что степень недозаполнения осажден-ных на подложку монослоев LB−D2−Und−4T−Hex не превышала 25% в составе исследованной поверхности.…”

“…3, b) расположен при энергии связи 164 eV, что характерно для молекул тиофена [22,23]. С учетом табличных значений чувствительности регистрации XPS сигнала [21] при регистрации максимумов C 1s и S 2p при-мерное отношение концентраций атомов C и S без пред-варительной обработки поверхности образца составило 10 : 1. Как было показано ранее [10,20,24,25], следует считать, что при приготовлении органических пленок ex situ ∼ 10−20% измеряемой интенсивности C 1s мак-симума также обусловлено поверхностно адсорбирован-ными примесями.…”