Thermally activated magnetic wall motion in oblique incidence films at liquid helium temperatures

Abstract

Easy axis reversals in permalloy films were investigated at 4 to 30°K. In contrast to films evaporated at normal incidence in the presence of a magnetic field, oblique incidence films revealed a simple motion of straight walls down to 4°K. Their velocity v was measured as a function of the applied field H, giving the dependence v ∼ exp [2 M (H − H0) V*/kT] down to 4°K. The parameters H0 and V* are explained by a model assuming a wall of nonzero width to move by thermal activation.

Electron microscopy of the magnetic structure of thin films

“…С уменьшением температуры от 300 до 4° К растут поле старта границ, коэрцитивная сила (в 3-4 раза) и поле зародышеобразования (в 1,5-3 раза). Скорость смещения в постоян-ном поле экспоненциально растет с ростом поля, а показатель экспоненты уменьшается при уменьшении температуры 328 . На движение доменной границы оказывают влияние и поля рассеяния соседних границ, если они находятся достаточно близко.…”