2009
DOI: 10.1109/jqe.2009.2013125
|View full text |Cite
|
Sign up to set email alerts
|

The Influence of Zn-Diffusion Depth on the Static and Dynamic Behavior of Zn-Diffusion High-Speed Vertical-Cavity Surface-Emitting Lasers at an 850 nm Wavelength

Help me understand this report

Search citation statements

Order By: Relevance

Paper Sections

Select...
3
1
1

Citation Types

2
6
1
1

Year Published

2010
2010
2021
2021

Publication Types

Select...
5
1

Relationship

0
6

Authors

Journals

citations
Cited by 18 publications
(10 citation statements)
references
References 16 publications
2
6
1
1
Order By: Relevance
“…1 потерь и/или дополнительного оптического ограничения. Например, формирование оптической апертуры с высоким уровнем поглощения на свободных носителях с помощью технологии локальной диффузии цинка позволяет увеличить мощность одномодового излучения ВИЛ спектрального диапазона 850 nm с активной областью на основе квантовых ям GaAs и оксидной токовой апертурой, однако, несмотря на рост D-фактора, резонансная частота для таких приборов быстро насыщается с ростом тока из-за пространственного выжигания дырок в спектре усиления, что в итоге ограничивает частоту эффективной модуляции на уровне 12 GHz [78]. Создание оптической апертуры путем формирования пространственно-упорядоченного массива про-травленных отверстий в выводном зеркале ВИЛ спектрального диапазо-на 850 nm с активной областью на основе квантовых ям GaAs и токовой апертурой, полученной ионной имплантацией, позволяет реализовывать одномодовые лазеры с частотой модуляции более 18 GHz и скоростью безошибочной передачи данных 25 Gbit/s [79].…”
Section: управление модовым составом излученияunclassified
“…1 потерь и/или дополнительного оптического ограничения. Например, формирование оптической апертуры с высоким уровнем поглощения на свободных носителях с помощью технологии локальной диффузии цинка позволяет увеличить мощность одномодового излучения ВИЛ спектрального диапазона 850 nm с активной областью на основе квантовых ям GaAs и оксидной токовой апертурой, однако, несмотря на рост D-фактора, резонансная частота для таких приборов быстро насыщается с ростом тока из-за пространственного выжигания дырок в спектре усиления, что в итоге ограничивает частоту эффективной модуляции на уровне 12 GHz [78]. Создание оптической апертуры путем формирования пространственно-упорядоченного массива про-травленных отверстий в выводном зеркале ВИЛ спектрального диапазо-на 850 nm с активной областью на основе квантовых ям GaAs и токовой апертурой, полученной ионной имплантацией, позволяет реализовывать одномодовые лазеры с частотой модуляции более 18 GHz и скоростью безошибочной передачи данных 25 Gbit/s [79].…”
Section: управление модовым составом излученияunclassified
“…The 6-μm Zn-diffusion aperture with a >1.5 μm diffusion depth will ensure stable singlemode output performance in 850-nm VCSELs [11], [19], [20]. During high-speed data transmission, the single-mode output might reduce the mode dispersion in the fiber and benefit the product of bit-rate transmission distance [23], [24].…”
Section: Device Structure and Fabricationmentioning
confidence: 99%
“…However, compared with the reported high-performance 850-nm VCSEL with a larger oxide aperture (∼6 μm), a significant degradation in the maximum 3-dB electrical-to-optical (E-O) bandwidth is observed (23 Gbit/s [2] versus ∼13 Gbit/s [3]). Such degradation in speed performance might be attributable to the tremendous increase in the differential resistance of a VCSEL (∼570 Ω [3]) with such a small oxide aperture (∼2 μm), the single-mode output-induced spatial hole burning effect [18]- [20], and the relaxation oscillation (RO) frequency-limited E-O bandwidth [19]- [21]. In addition, the significant stress of (double) oxide layers [1], [2], [8] on the active regions should be regarded as a more serious issue impacting the reliability of these VCSELs when their current-confined oxide apertures [22] are further downscaled.…”
Section: Introductionmentioning
confidence: 99%
See 2 more Smart Citations