ETİLEN GLİKOL+SÜLFÜRİK ASİT İÇERİSİNDE 7075 ALUMİNYUM ALAŞIMI ÜZERİNDEALUMİNYUM OKSİT TABAKASININ GELİŞTİRİLMESİ ÖZ Bu çalışmada, 7075 aluminyum (Al) alaşımının korozyon dayanımının arttırılması amacıyla, Al yüzeyindeki oksit tabakasının geliştirilmesi hedeflenmiştir. 7075Al"un anot, Pt katot ve Ag/AgCl"nin referans elektrot olarak kullanıldığı üç elektrot sisteminde, 30 dakika boyunca farklı potansiyeller (0.5-2V) uygulanarak oluşan akımın, zamanla değişimleri belirlenmiştir. Elektrolit derişim etkisinin belirlenmesi için; değişik derişimde Etilen Glikol (EG) içeren (0.0; 0.1; 0.5; 0.6; 0.7; 1.0; 1.5 M), 0.4 M H 2 SO 4 çözeltileri kullanılmıştır. Korozyon davranışları ise %3.5 NaCl içerisinde elektrokimyasal impedans spektroskopisi, akım-potansiyel eğrileri yardımıyla araştırılmıştır. Elde edilen bulgulara göre; en uygun oksit kaplama potansiyeli 2V, katkı derişimi 0,5M Etilen Glikol (EG)"dur. Bu koşullarda oluşturulan oksit tabakasının korozyon direnci, 0.4M H 2 SO 4 "de elde edilene göre yaklaşık iki kat artmıştır.Anahtar Kelimeler: 7075 Aluminyum, Etilen Glikol, Korozyon, Gözenekli Oksit Filmi, Elektrokimyasal İmpedans Spektroskopisi
THE DEVELOPMENT OF THE ALUMINUM OXIDE LAYER ON 7075 ALUMINUM ALLOY IN ETHYLENE GLYCOL+SULFURIC ACID ABSTRACTIn this study,we aimed to develop oxide layer on 7075 aluminum alloy (Al) in order to increase the corrosion resistance of Al. A conventional three-electrode system, which 7075Al is anode, a platinum sheet is cathode and Ag/AgCl (3M KCl) is reference electrode was used under atmospheric condition, at different potentials (0.5-2V) during 30 minutes. The current-time curves were obtained. Due to determine the effect of additive concentrations (0.0; 0.1; 0.5; 0.6; 0.7; 1.0; 1.5M) Ethylene Glycol (EG) containing in 0.4 M H 2 SO 4 were used. The corrosion behavior was investigated in 3.5% NaCl by electrochemical impedance spectroscopy,current-potential curves. The results showed that; the convenient potential is 2V and the most suitable EG concentration is 0.5M. The corrosion resistance of the oxide layer formed in this condition was increased about twice time compared to that obtained from 0.4 M H 2 SO 4 .