Abstract:Accurate multi-level overlay capability for nanoimprint lithography (NIL) is essential to integrated circuit manufacturing and other multilayer imprint applications. Using the "beat" grating image (Moiré fringe) generated by overlaying two sets of gratings that have slightly different periods, we obtained an alignment signal with a sensitivity better than 10 nm in nanoimprint lithography. The alignment signal is, as expected, independent of the size of the gap between the wafer and the imprint mold. We achieve… Show more
“…The misalignment offset of the ellipse, in the direction perpendicular to the axis of the waveguide, is most critical. Modern technologies allow combining structural layers within ~10 nm error [15]. Figure 4 shows that when the transverse displacement is only 20 nm, the Q-factor does not exceed 10 3 for A=4.08 um.…”
“…The misalignment offset of the ellipse, in the direction perpendicular to the axis of the waveguide, is most critical. Modern technologies allow combining structural layers within ~10 nm error [15]. Figure 4 shows that when the transverse displacement is only 20 nm, the Q-factor does not exceed 10 3 for A=4.08 um.…”
“…При этом погрешность смещения эллипса в направлении перпендикулярном оси волновода наиболее критична. Современные тех-нологии позволяют совмещать структурные слои с точностью ~10 нм [15]. Из рис.…”
Двухкомпонентные нанорезонаторы на основе регулярных гребенчатых фотонно-кристаллических волноводов Серафимович П.Г.Компьютерная оптика, 2013, том 37, №2 155
ДВУХКОМПОНЕНТНЫЕ НАНОРЕЗОНАТОРЫ НА ОСНОВЕ РЕГУЛЯРНЫХ ГРЕБЕНЧАТЫХ ФОТОННО-КРИСТАЛЛИЧЕСКИХ ВОЛНОВОДОВ
Серафимович П.Г. Институт систем обработки изображений РАНАннотация В работе предложена и численно исследована модель двухкомпонентного оптического резонатора. Такой резонатор состоит, во-первых, из гребенчатого фотонно-кристаллическо-го волновода, в котором период структуры не изменяется. Во-вторых, резонатор содержит фрагмент дополняющего материала площадью несколько периодов фотонного кристалла. При совмещении двух компонентов формируется дефект, в котором может быть возбужде-на резонансная мода. Рассмотрены преимущества предложенной модели резонатора. В ча-стности, простота формирования массивов резонаторов и создания динамических нанофо-тонных элементов. Рассчитаны допустимые погрешности изготовления предложенного ре-зонатора. Показано, что величины допустимых погрешностей позволяют использовать су-ществующие технологии совмещения структурных слоёв.Ключевые слова: оптический нанорезонатор, фотонно-кристаллический волновод, резо-нансная мода, добротность резонатора.
ВведениеСпособность фотонно-кристаллических (ФК) структур локализовывать свет в субволновых объё-мах находит применение в различных нанофотон-ных устройствах. Нанорезонатор становится базо-вым элементом нанофотоники [1]. Перечислю не-сколько проблем, которые усложняют разработку устройств на основе нанорезонаторов. Большинство существующих технологий создания высокодоброт-ных ФК-резонаторов предполагают тонкую на-стройку геометрии резонансной камеры с помощью изменения параметров фотонного кристалла. Таки-ми параметрами могут быть, например, длина пе-риода фотонного кристалла и / или радиус отверстия на этом периоде [2,3]. Это накладывает строгие ог-раничения на точность изготовления минимальных деталей ФК-структуры. При создании массива нано-резонаторов [4] высокая точность изготовления ми-нимальных деталей должна быть обеспечена на всей площади массива. Индивидуальная настройка резо-наторов в таком массиве требует дополнительных усилий [5]. Создание на основе нанорезонаторов ди-намических систем также требует сложных техноло-гических решений. При этом в большинстве случаев предполагается механическое воздействие непо-средственно на ФК-структуру [6]. Другая сложность возникает при создании нелинейных нанофотонных устройств. Усиление степени взаимодействия света с веществом в нанорезонаторе позволяет эффектив-но использовать оптически нелинейные материалы и квантовые точки. Привнесение таких материалов в область резонатора предполагает использование от-носительно сложных технологий [7].Примером ещё одной трудности при создании не-которых нанофотонных устройств является необхо-димость формирования заданного распределения из-лучения в дальней зоне. Эта задача часто решается также с помощью тонкой настройки минимальных деталей фотонного кристалла [8,9].
Постановка задачи и предложенный подходЧтоб...
“…Furthermore, they achieved sub-150 nm alignment over an area of 1 sq in and sub-250 nm over the entire area of a 4 in wafer using simple low-resolution stages without temperature control or wafer-mold mismatch compensation. With better stages, precision temperature control, and wafer-mold mismatch compensation, they believe that much higher overlay alignment accuracy over large areas (either in a 1 sq in die or a full wafer) is feasible (Li et al, 2006). Pan and Chen developed a self-built multilayer aligner for multilayer-imprint process to fabricate thin film transistor-liquid crystal display (TFT-LCD).…”
scite is a Brooklyn-based organization that helps researchers better discover and understand research articles through Smart Citations–citations that display the context of the citation and describe whether the article provides supporting or contrasting evidence. scite is used by students and researchers from around the world and is funded in part by the National Science Foundation and the National Institute on Drug Abuse of the National Institutes of Health.