Study on powder preparation of IGZO target and its effect on sintering

Production, Pelleting and Characterization of IGZO particles by Sol-Gel Method

“…Bu teknikler yüksek depolama oranı, geniş alan depolama için fizibilite, düşük depolama sıcaklığı ve yüksek film kalitesi nedeniyle etkin yöntemlerdir. Filmlerin birikimi için hedef malzeme (target) verimli üretimin en önemli anahtarıdır [18,19]. Bu yöntemlerde kaplanmak istenen malzeme hedef malzeme olarak sisteme yerleştirilir.…”

“…Örneğin, düşük yoğunluklu ve homojen olmayan bileşime sahip bir hedef, nodüllere kolayca neden olabilir, bu da hedefin hızlı bir şekilde bozulmasına ve film özelliklerinin kararsızlığına yol açar. Bu nedenle, kararlı film özelliklerine ulaşmak ve hedefin saçtırma verimliliğini artırmak için saçtırma hedefinin yüksek kalitesi gereklidir [26]. Genel olarak, In2O3'ün [27] ayrışması ve yüksek sıcaklıkta sinterleme sırasında ZnO'nun [28,29] buharlaşması nedeniyle yüksek yoğunluklu, tek fazlı ve homojen mikroyapı ile IGZO saçtırma hedefine ulaşmak zordur.…”

“…Ayrıca sinterleme işlemini incelemiş ve optimize edilmiş sinterleme koşulları altında ürün için %93'lük bir yoğunluk elde etmişlerdir [33]. Jie Chen ve arkadaşları ise benzer çalışmada sinterleme etkisini incelemişler ve %99 yoğunluklu IGZO hedef malzemelerini üretmişlerdir [26]. Yang Liu ve arkadaşları oksit malzemelerinden yola çıkarak IGZO harçlarını oluşturmuş, sinterleme sıcaklıklarına göre faz değişimleri ve hedef malzemelerin yoğunluk oranlarını keşfetmişlerdir.…”