Проведена модернізація технології вакуумно-дугового нанесення багатошарових покриттів. Розроблено дослідний зразок пристрою, призначеного для управління роботою вакуумно-дугових випарників (плазмових джерел) та напускачів для напуску газів у вакуумну камеру в процесі нанесення простих і складних комплексних багатошарових наноструктурних вакуумно-дугових покриттів. Цей пристрій являє собою 2-х канальний програмований цифровий пристрій, один з каналів якого керує роботою вакуумно-дугових випарників, а інший канал -роботою напускачів. Таким чином, є можливість одночасної роботи двох вакуумно-дугових випарників і двох напускачів газів. Товщину шарів вакуумно-дугового покриття, а також порядок їх нанесення можна регулювати режимами і тривалістю роботи каналів пристрою управління. Застосування даного пристрою дозволило одержати багатошарові вакуумно-дугові WNbN/WNbC покриття з мікротвердістю 27-31 ГПа.