Structure and properties of ion-plasma-deposited films of Fe-(Ag, Bi) alloys

Ryabtsev, S. I.

doi:10.1134/s0031918x09090026

Cited by 9 publications

(11 citation statements)

References 6 publications

Supporting

Mentioning

Contrasting

Unclassified

Order By: Relevance

“…As-cast alloy with a nominal composition of Al 65 Cu 20 Fe 15 (in atomic percent) cooled at a rate of 5 K/s was prepared by melting a mixture of high purity (99.99 %) Al, Cu, Fe in alumina crucibles [9]. As-sputtered Al 60 Cu 28 Fe 12 film was deposited on NaCl substrate by the modernized method of three-electrode ion-plasma sputtering [7,8].…”

Section: Methodsmentioning

confidence: 99%

“…In deposition of quasicrystalline coatings, it is essential to monitor the rates of sputtered atoms which have a considerable dispersion not only in magnitude but also in direction. An acceleration of ions impinging on the target and, correspondingly, an increase in their kinetic energy by factors of 5 to 6 can be achieved by using a modernized method of ion-plasma sputtering [7,8]. This method ensures a more uniform mixing of components upon their deposition on the substrates.…”

Section: Introductionmentioning

confidence: 99%

See 1 more Smart Citation

Structure and corrosion in NaCl solution of quasicrystalline Al–Cu–Fe cast alloys and thin films

2019

Self Cite

View full text Add to dashboard Cite

For the first time, quasicrystalline Al60Cu28Fe12 films with 260 nm thickness cooled at 1012–1014 K/s were produced by the modernized method of three-electrode ion-plasma sputtering. Films were deposited on NaCl substrate. The structure of as-sputtered films was investigated in comparison with that of as-cast specimens by methods of quantitative metallography, X-ray analysis, and scanning electron microscopy. Corrosion behavior in 5% NaCl aqueous solution was studied by potentiodynamic method and model tests. In the structure of the as-cast Al–Cu–Fe alloy, the quasicrystalline icosahedral i-phase was established to co-exist with λ -Al13Fe4 , τ-AlCu(Fe), η-AlCu, and θ-Al2Cu crystalline phases and occupy ~56 % of the alloy volume. The Al–Cu–Fe film contains dispersive quasicrystalline i-phase (~3 nm in size) that is stable up to 723 К. Corrosion of the as-sputtered Al–Cu–Fe film runs at the lower rate as compared with that of the as-cast alloy of the same composition. Model corrosion tests for 1, 2, 3, 4, 8 days with 5% NaCl solution at 293 K indicate that the investigated Al–Cu–Fe film remains virtually untouched by corrosion. No marks of pittings typical for as-cast Al–Cu–Fe alloys are observed on the film surface affected by saline solution.

show abstract

Section: Methodsmentioning

confidence: 99%

Section: Introductionmentioning

confidence: 99%

Structure and corrosion in NaCl solution of quasicrystalline Al–Cu–Fe cast alloys and thin films

2019

Self Cite

View full text Add to dashboard Cite

show abstract

“…З огляду на сказане в роботі досліджували структуру й електричні властивості тонких плівок Al-Cu-Co і Al-Ni-Co, одержаних модернізованим методом триелектродного йонно-плазмового розпорошення складених мішеней, з метою вибору складу матеріялу для виготовлення прецизійних низькоомних тонкоплівкових резисторів. [11]. Ìішенями слугували окремі паралелепіпеди розмірами у 20205 мм, виготовлені з чистих елементів (не менше 99,99%), розділені між собою бар'єрними комірками з функцією електростатичних лінз.…”

Section: вступunclassified

Structure and Electrical Properties of Thin Al66Cu18Co16 and Al69Co16Ni15 Films

2019

Nanosist. Nanomater. Nanotehnol.

View full text Add to dashboard Cite

Тонкі плівки номінального складу Al 66 Cu 18 Co 16 та Al 69 Co 16 Ni 15 товщиною у 85-100 нм, охолоджені зі швидкістю у 10 12-10 14 К/с, було вперше одержано методом модернізованого триелектродного йонно-плазмового розпорошення складених мішеней. Плівкові покриття осаджували на підкладинки, виготовлені з натрію хлориду або ситалу. Структуру покриттів аналізували за допомогою рентґеноструктурної аналізи. Електричний опір вимірювали чотирозондовим методом. В структурі свіжонапорошених плівок спостерігається рентґеноаморфна фаза та сліди квазикристалічної декагональної D-фази. Області когерентного розсіяння (ОКР) плівок Al 66 Cu 18 Co 16 та Al 69 Co 16 Ni 15 дорівнюють 2,8 нм і 3,2 нм відповідно. Зміна електричного опору тонких плівок Al 66 Cu 18 Co 16 та Al 69 Co 16 Ni 15 у разі нагріву до температур, відповідно, у 600 К і 640 К має оборотній характер, що вказує на термічну стійкість їхньої структури. Подальший нагрів до 920 К супроводжується необоротньою зміною електричного опору, що спричинено зникненням аморфної фази та появою металевої фази на основі алюмінію в структурі плівок. Після витримки за температури у 923 К протягом 10 хвилин розміри ОКР D-фази збільшуються у понад два рази та сягають 6,0-6,5 нм. В структурі плівок спостерігаються наночастинки квазикристалів в алюмінійовій матриці. Температурний коефіцієнт опору (ТКО), як під час нагріву, так і охолодження, має неґативні значення, що підтверджує присутність у структурі плівок квазикристалічної фази. Під час охолодження від температури у 920 К до кімнатної температури ТКО тонкої плівки Al 66 Cu 18 Co 16 збільшується від 410-4 К-1 до 1,210-5 К-1 , а плівки Al 69 Co 16 Ni 15-від 510-4 К-1 до 2,410-4 К-1. Це уможливлює рекомендувати тонку плівку Al 66 Cu 18 Co 16 для виготовлення прецизійних низькоомних тонкоплівкових резисторів. For the first time, thin films with the Al 66 Cu 18 Co 16 or Al 69 Co 16 Ni 15 nominal compositions and of 85-100 nm thickness cooled at 10 12-10 14 K/s are produced by method of modernized three-electrode ion-plasma sputtering of composed targets. Thin films are deposited on sodium chloride or glass

show abstract

“…Known studies of the effect of paramagnetic and diamagnetic additives, which are practically immiscible with the main component even in the liquid state, on the magnetic properties [4][5][6][7]. Such alloys can be obtained in the form of films by the method of modernized three-electrode ion-plasma spraying (MTIPS) [4,8].…”

Section: Introductionmentioning

confidence: 99%

Effect of chromium additions on the structure and physical properties of manganese-based films

et al. 2021

View full text Add to dashboard Cite

The formation of metastable structures of manganese films with chromium additions obtained by the method of modernized three-electrode ion-plasma sputtering is studied. It is shown that the deposition of pure manganese leads to the formation of nanocrystalline β-Mn and MnO oxide. Heating in vacuum above 700 K leads to the film oxidation. The addition of Cr to the composition of the films prevents the formation of MnO oxide. It is shown that the activation energy of structural changes decreases with an increase in the energy of deposited atoms for pure manganese and MnCr films. Magnetization hysteresis is observed only in freshly sprayed Mn and MnCr films.

show abstract

Structure and properties of ion-plasma-deposited films of Fe-(Ag, Bi) alloys

Cited by 9 publications

References 6 publications

Structure and corrosion in NaCl solution of quasicrystalline Al–Cu–Fe cast alloys and thin films

Structure and corrosion in NaCl solution of quasicrystalline Al–Cu–Fe cast alloys and thin films

Structure and Electrical Properties of Thin Al66Cu18Co16 and Al69Co16Ni15 Films

Effect of chromium additions on the structure and physical properties of manganese-based films

Contact Info

Product

Resources

About