Structural and optical properties of Ag2S/SiO2 core/shell quantum dots

Люминесценция коллоидных квантовых точек Ag-=SUB=-2-=/SUB=-S/SiO-=SUB=-2-=/SUB=-, декорированных малыми наночастицами Au

“…Для достижения однородности коллоидного раствора после смешивания прекурсоров реакционную смесь выдерживали 3 h при температуре 25 • C и постоянном перемешивании (300 rpm). Концентрационное соотношение прекурсоров AgNO 3 и Na 2 S обеспечивает формирование коллоидных КТ Ag 2 S средним размером в диапазоне от 2 до 3 nm [26,27]. Используемая концентрация кремнеземного лиганда оценивалась по размеру молекулы 3-MPTMS (∼ 0.7 nm) [28], что предполагает формирование слоя SiO 2 на поверхности КТ Ag 2 S в диапазоне от 3 до 5 nm.…”

“…Используемая концентрация кремнеземного лиганда оценивалась по размеру молекулы 3-MPTMS (∼ 0.7 nm) [28], что предполагает формирование слоя SiO 2 на поверхности КТ Ag 2 S в диапазоне от 3 до 5 nm. Более высокие концентрации способствуют слипанию КТ Ag 2 S в агломераты [26][27][28][29]. Центрифугирование КТ Ag 2 S/SiO 2 и повторное растворение в дистиллированной воде позволяет избавиться от продуктов реакции, а также излишка молекул 3-MPTMS, тем самым останавливая рост оболочки SiO 2 .…”

“…Оригинальность метода формирования КТ ядрооболочка Ag 2 S/SiO 2 , предложенного в настоящей работе, заключается в его простоте и экономичности, поскольку данный метод позволят формировать структуры ядрооболочка в рамках одного этапа, минуя стадии замены стабилизирующего агента (TGA, 2-MPA и др.) на кремнеземный лиганд с последующим поэтапным формированием слоя SiO 2 с использованием нескольких кремнеземов [26,27,31].…”

Luminescence of colloidal quantum points Ag-=SUB=-2-=/SUB=-S/SiO-=SUB=-2-=/SUB=-, decorated by small nanoparticles Au

“…To achieve homogeneity of colloidal solution, after mixing of precursors, the reaction mix was maintained for 3 h at 25 • C and continuous mixing (300 rpm). Concentration ratio of precursors AgNO 3 and Na 2 S provides for generation of colloidal QPs Ag 2 S with average size in the range from 2 to 3 nm [26,27]. The used concentration of silicic ligand was assessed by size of molecule 3-MPTMS (∼ 0.7 nm) [28], which suggests generation of layer SiO 2 on surface of QP Ag 2 S in the range from 3 to 5 nm.…”

“…The used concentration of silicic ligand was assessed by size of molecule 3-MPTMS (∼ 0.7 nm) [28], which suggests generation of layer SiO 2 on surface of QP Ag 2 S in the range from 3 to 5 nm. Higher concentrations promote adhesion of QPs Ag 2 S into agglomerates [26][27][28][29]. Centrifugation of QPs Ag 2 S/SiO 2 and subsequent dilution in distilled water makes it possible to remove reaction products and excess of 3-MPTMS molecules, thus stopping growth of SiO 2 shell.…”