Structural And Optical Properties Of VOx Thin Films

Abstract

VO x thin films were deposited on Corning glass, fused silica and Ti foils by means of rf reactive sputtering from a metallic vanadium target. Argon-oxygen gas mixtures of different compositions controlled by the flow rates were used for sputtering. Influence of the oxygen partial pressure in the sputtering chamber on the structural and optical properties of thin films has been investigated.Structural properties of as-sputtered thin films were studied by X-ray diffraction at glancing incidence, GIXD. Optical transmittance and reflectance spectra were recordedwith a Lambda 19 Perkin-Elmer double spectrophotometer. Thickness of the films was determined from the profilometry. It has been confirmed by XRD that the deposited films are composed mainly of V 2 O 5 phase. The estimated optical band gap of 2.5 eV corresponds to V 2 O 5 .Keywords: VO x thin films, reactive sputtering, microstructure, optical properties, energy band gap Cienkie warstwy VO x były nanoszone na szkło Corning metodą rozpylania magnetronowego rf. Jako katody użyto metalicznego wanadu. Były one nanoszone w komorze wypełnionej mieszaniną argonu i tlenu w różnych proporcjach przy ustalonych przepływach. Zbadano wpływ ciśnienia parcjalnego tlenu w komorze na własności strukturalne i optyczne otrzymanych warstw.Własności strukturalne cienkich warstw zostały określone metodą rozpraszania promieniowania rentgenowskiego padają-cego pod małymi kątami (GIXD). Widma optyczne transmitancji i odbicia zostały wykonane przy użyciu spektrometru Lambda 19 Perkin-Elmer. Grubość badanych warstw zmierzono za pomocą profilometru.Pomiary XRD potwierdziły, że otrzymane warstwy składają się głównie z fazy V 2 O 5 . Wyznaczona optycznie przerwa energetyczna wynosząca 2.5 eV odpowiada przerwie energetycznej V 2 O 5 .

The Performance of V2O5:Ag Nanoparticles as Thin Film and Bulk Pellet Sensor for NO2 and NH3 Detection

“…X-ray analysis confirmed that all peaks correspond to the V 2 O 5 orthorhombic phase. The results are well agreed with those obtained by Zhang et al[4], Fu et al ]13] and Schneider[16]. The diffraction peaks of the samples manifest that the samples were well crystallized and correspond to the JCPDS Card numbering 41-1426.…”