Sol-gel derived antireflective structures for applications in silicon solar cells

Karasiński, Paweł; Skolik, M.

doi:10.1117/12.2261810

Cited by 3 publications

(1 citation statement)

References 7 publications

Supporting

Mentioning

Contrasting

Unclassified

Order By: Relevance

“…Zalety metody zol-żel są bardzo istotne z punktu widzenia możliwości jej zastosowania w technologiach optyki zintegrowanej i struktur fotowoltaicznych. Metoda zol-żel może mieć zastosowania do wytwarzania wysokiej klasy warstw falowodowych [8], warstw sensorowych a w przypadku fotowoltaiki do wytwarzania elektrod transparentnych, warstw akceptorowych, nanocząstek dla fotowoltaiki organicznej [4], zwierciadeł fotonicznych i struktur antyrefleksyjnych [9][10][11]. W tej pracy przedstawiamy zastosowanie metody zol-żel do wytwarzania jedno-i dwuwarstwowych struktur antyrefleksyjnych dla fotoogniw krzemowych.…”

Section: Wprowadzenieunclassified

Jedno- i dwuwarstwowe struktury antyrefleksyjne wytwarzane metodą zol-żel do zastosowań w fotoogniwach krzemowych

Skolik

Karasiński

2017

ELECTROTECHNICAL REVIEW

Self Cite

View full text Add to dashboard Cite

Jedno-i dwuwarstwowe struktury antyrefleksyjne wytwarzane metodą zol-żel do zastosowań w fotoogniwach krzemowych Streszczenie. Pomimo pojawienia się wielu nowych rodzajów fotoogniw słonecznych, fotogniwa krzemowe nadal odgrywają istotną rolę. Wysoki współczynnik załamania krzemu sprawia, że ponad 34% fotonów promieniowania słonecznego z zakresu absorpcji krzemu ulega od niego odbiciu i nie generuje w nim ekscytonów. Odbicie światła można istotnie zmniejszyć teksturując powierzchnię krzemu, wytwarzając na niej strukturę antyrefleksyjną albo stosując jednocześnie oba rozwiazania. Praca dotyczy jedno-i dwuwarstwowych struktur antyrefleksyjnych wywtarzanych metodą zol-żel i techniką dip-coating na podłożach krzemowych. Dla struktury jednowarstwowej osiągnięto ważony współczynnik odbicia fotonów R w 9%, natomiast dla struktury dwuwarstwowej osiągnięto R w <4%. W pracy przedstawiano optymalizację teoretyczną struktur antyrefleksyjnych, technologię ich wytwarzania oraz wyniki badań eksperymentalnych. Osiągnięto doskonałą zgodność wyników analizy teoretycznej z wynikami eksperymentalnymi.

show abstract

Section: Wprowadzenieunclassified

Jedno- i dwuwarstwowe struktury antyrefleksyjne wytwarzane metodą zol-żel do zastosowań w fotoogniwach krzemowych

Skolik

Karasiński

2017

ELECTROTECHNICAL REVIEW

Self Cite

View full text Add to dashboard Cite

show abstract

Enhancing mechanical stability of sol-gel silica antireflection coatings via ammonia treatment at low temperature

et al. 2020

View full text Add to dashboard Cite

Chemical Doping of a Silica Matrix with a New Organic Dye from the Group of Heterocyclic Compounds—Chemical, Optical and Surface Characteristics

et al. 2022

View full text Add to dashboard Cite

This paper presents the results of research on a luminescent dye bound in a silica matrix. The new developed dye from the group of azaheterocyclic compounds was used: 3-(p-hydroxyphenyl)-1-phenyl-1H-pyrazolo [3,4-b]quinoxaline. The structure and composition of the dye was examined by 1HNMR, 13CNMR, FTIR, and elemental analysis. Its absorption and photoluminescence characteristics were tested in solvents of different polarity in UV-Vis range. The films were prepared by sol–gel method and dip-coating technique. The dye was introduced into a sol in the course of a synthesis of the latter. DLS and FTIR measurements of sols were performed. Optical properties were investigated using UV-Vis spectrophotometry and monochromatic ellipsometry. The surface morphology of the layers was examined by atomic force microscopy. Our investigations showed that the dye bound in the silica matrix does not lose its photoluminescent properties. The emission band at λPL= 550 nm (λex= 365 nm) was recorded for the dye in the matrix. The layers are optically homogeneous with smooth surfaces. Dye doped silica films have RMS surface roughness of 2.17 nm over areas of 2 × 2 μm2. The idea of binding a photoluminescent dye in a silica matrix presented in the paper can be applied in the technology of luminescent solar concentrators.

show abstract

Sol-gel derived antireflective structures for applications in silicon solar cells

Cited by 3 publications

References 7 publications

Jedno- i dwuwarstwowe struktury antyrefleksyjne wytwarzane metodą zol-żel do zastosowań w fotoogniwach krzemowych

Jedno- i dwuwarstwowe struktury antyrefleksyjne wytwarzane metodą zol-żel do zastosowań w fotoogniwach krzemowych

Enhancing mechanical stability of sol-gel silica antireflection coatings via ammonia treatment at low temperature

Chemical Doping of a Silica Matrix with a New Organic Dye from the Group of Heterocyclic Compounds—Chemical, Optical and Surface Characteristics

Contact Info

Product

Resources

About