Simple solution-phase syntheses of tetrahalodiboranes(4) and their labile dimethylsulfide adducts

Abstract

Convenient solution-phase syntheses of tetrahalodiboranes(4) and the dimethylsulfide adducts B2Cl4(SMe2)2 and B2Br4(SMe2)2 are presented.

Dibortetraiodid (B2I4) ist im Festkörper ein Polymer aus sp3‐hybridisiertem Bor

“…Hierbei sei angemerkt, dass die IR‐Spektren ebenfalls Spuren von Bortriiodid und anderen Zersetzungsprodukten enthielten, welche im Zuge des Verreibungsprozesses entstanden sein könnten. Abgesehen hiervon ist nach unserem Wissen für B 2 I 4 lediglich die 11 B‐NMR‐Resonanz in Lösung bekannt ( δ =70 ppm) …”

“…Das Interesse an der Reaktivität von Dibortetrahalogeniden entstammte in den letzten Jahren fast ausschließlich dieser Gruppe und der um Kinjo, wobei B 2 Br 4 einerseits als Baustein zur Konstruktion von Molekülen mit Bor‐Bor‐Mehrfachbindungen wie Diborenen und Diborinen, aber auch als Vorstufe für Bis(boratabenzol)‐Liganden diente . Seitdem erweiterten wir unsere Studien zu Dibortetrahalogeniden mit der Entwicklung einfacher, nasschemischer Methoden zur Darstellung der übrigen B 2 X 4 ‐Spezies (X=F, Cl, I) ausgehend von B 2 Br 4 . Unsere anschließenden Untersuchungen bezüglich der Reaktivität von B 2 I 4 offenbarten deutliche Unterschiede zwischen diesem hochreaktiven Molekül und den leichteren Dibortetrahalogeniden, was einerseits durch die Reaktivität gegenüber niedervalenten Metallkomplexen ersichtlich ist, andererseits kann B 2 I 4 (wie auch B 2 Br 4 ) zwar als Vorstufe für die Synthese von Dihalogendiboranen eingesetzt werden, die Produkte unterscheiden sich allerdings drastisch von den entsprechenden Bromderivaten .…”

Übergangsmetall‐π‐Komplexierung eines Tetrahalogendiborans

“…Anders als bei den verwandten, synthetisch wertvollen vierfach-substituierten Bis(pinakol)-und Bis(catechol)diboran-Verbindungen, [3] ist das synthetische Interesse an Tetrahalogendiboranen nach einer Anfangsphase in der Mitte des 20. Wiev on uns bereits erwähnt wurde, [4] gab es zum Thema Te trahalogendiborane in den letzten fünf Jahren doppelt so viele Patentanmeldungen wie Verçffentlichungen in Fachzeitschriften. Wiev on uns bereits erwähnt wurde, [4] gab es zum Thema Te trahalogendiborane in den letzten fünf Jahren doppelt so viele Patentanmeldungen wie Verçffentlichungen in Fachzeitschriften.…”

“…Dies liegt zu großen Te ilen am Interesse an B 2 F 4 fürdie Dotierung von B + -Ionen in Silicium, welches in der Halbleiterherstellung bençtigt wird. [4] Zusätzlich zu unserem andauernden Interesse an Tetrahalogendiboranen als Vorstufen fürS pezies mit Bor-Bor-Mehrfachbindungen [3c-e, 6] sind wir an der Reaktivitätd ieser grundlegenden Bor-Verbindungen gegenüber Übergangsmetallen (ÜM) interessiert, über welche sehr wenig bekannt ist. [6] Kürzlich haben wir jedoch die Mçglichkeit der einfachen nasschemischen Herrstellung von B 2 X 4 (X = F, Cl, I) ausgehend von B 2 Br 4 präsentiert, welche alle vier Te tra-halogendiborane in brauchbaren Mengen deutlich besser zugänglich macht (Abbildung 1, oben).…”

“…[6] Kürzlich haben wir jedoch die Mçglichkeit der einfachen nasschemischen Herrstellung von B 2 X 4 (X = F, Cl, I) ausgehend von B 2 Br 4 präsentiert, welche alle vier Te tra-halogendiborane in brauchbaren Mengen deutlich besser zugänglich macht (Abbildung 1, oben). [4] Unten:R eaktionen von B 2 F 4 mit Pt 0und Ir I -Komplexen von Norman et al zählen dazu Komplexe,i nd enen Metalle in eine H-B-B-H-Kavitätv on sp 3 -sp 3 -Diboranen binden, Komplexe kovalent gebundener h 1 -u nd h 2 -Diboran(4)yl-Liganden [8] sowie Komplexe aus Basen-freien [9] und Basen-stabilisierten h 2 -Diborenen [10] bzw. Die Koordinationschemie von Diboran-Einheiten an Übergangsmetalle ist gut erschlossen und vielfältig.N eben der Metall-katalysierten Borierungs-und Diborierungschemie [3] Abbildung 1.…”