2020
DOI: 10.3103/s0003701x2001003x
|View full text |Cite
|
Sign up to set email alerts
|

Silicon Photovoltaic Cells with Deep p–n-Junction

Help me understand this report

Search citation statements

Order By: Relevance

Paper Sections

Select...
1
1
1
1

Citation Types

0
4
0
5

Year Published

2021
2021
2023
2023

Publication Types

Select...
5
3

Relationship

0
8

Authors

Journals

citations
Cited by 24 publications
(12 citation statements)
references
References 17 publications
0
4
0
5
Order By: Relevance
“…All other samples were vacuumdeposited with a thin layer of pure nickel with thickness of 1 µm and diffusion was performed at various temperatures (according to experiment goals). After nickel diffusion all samples were subject to additional thermal annealing at T ann = 750−800 • C for t = 30 min to activate the process of gettering [17,18] of non-controlled recombination impurities. After nickel diffusion and thermal annealing the samples were cooled on air.…”
Section: Technology and Methods Of Studymentioning
confidence: 99%
“…All other samples were vacuumdeposited with a thin layer of pure nickel with thickness of 1 µm and diffusion was performed at various temperatures (according to experiment goals). After nickel diffusion all samples were subject to additional thermal annealing at T ann = 750−800 • C for t = 30 min to activate the process of gettering [17,18] of non-controlled recombination impurities. After nickel diffusion and thermal annealing the samples were cooled on air.…”
Section: Technology and Methods Of Studymentioning
confidence: 99%
“…На остальные образцы напыляли в вакууме тонкий слой чистого никеля толщиной 1 мкм и проводили диффузию при разных температурах (в соответствии с целями эксперимента). После диффузии никеля все образцы проходили дополнительный термический отжиг при T ann = 750−800 • C в течение t = 30 мин с целью активации процесса геттерирования [17,18] неконтролируемых рекомбинационных примесей. После диффузии никеля и термического отжига образцы охлаждались на воздухе.…”
Section: технология и метод исследованияunclassified
“…Также исследовалось влияние никеля на количество кислорода в кремнии. Нами на основе технологии, описанной в работе [18], были изготовлены образцы солнечных элементов, легированных никелем после формирования p−n-перехода на лицевой стороне. Концентрацию кислорода определяли методом инфракрасной спектрометрии, как после диффузии никеля (при…”
Section: геттерирующие свойства кластеров атомов никеляunclassified
“…После формирования p−nперехода, а также дополнительного термоотжига при T ann = 700−800 • C, характер распределения никеля мало меняется. Введенные атомы никеля легко формируют кластеры как в приповерхностной области, так и в объеме [1]. Эти кластеры действуют как геттерирующие центры [17,18] для различных неконтролируемых примесей (O, Cu, Fe, Au) и других дефектов различной природы.…”
Section: обсуждение результатовunclassified
“…В работах [1,2] было показано, что формирование обогащенного никелем слоя в приповерхностной области кремниевых фотоэлементов (ФЭ) приводит к улучшению их параметров. В этих работах p−n-переход был получен с методом диффузии фосфора в кремниевые пластины p-типа.…”
Section: Introductionunclassified