2017
DOI: 10.1016/j.jcrysgro.2017.05.017
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Selective etching reveals the migration and evolution of dislocations in annealed Cd1-xZnxTe

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“…En ninguna muestra se detectó la señal correspondiente a la fusión de Te o sea que la concentración de precipitados e inclusiones resultó inferior al mínimo nivel (0,6% V/V) posible de medición [12] a partir del cual se vería disminuida la transmitancia óptica del CZT en el infrarrojo [10,11]. Cuando los precipitados de Te tienen un gran tamaño, la transmisión IR es inferior al 60% [13]. Los precipitados e inclusiones de Te introducen tensiones y distorsionan la estructura cristalina [3], lo que reduce la transmisión óptica de los cristales y degrada las propiedades eléctricas [13].…”
Section: Difusividad Térmicaunclassified
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“…En ninguna muestra se detectó la señal correspondiente a la fusión de Te o sea que la concentración de precipitados e inclusiones resultó inferior al mínimo nivel (0,6% V/V) posible de medición [12] a partir del cual se vería disminuida la transmitancia óptica del CZT en el infrarrojo [10,11]. Cuando los precipitados de Te tienen un gran tamaño, la transmisión IR es inferior al 60% [13]. Los precipitados e inclusiones de Te introducen tensiones y distorsionan la estructura cristalina [3], lo que reduce la transmisión óptica de los cristales y degrada las propiedades eléctricas [13].…”
Section: Difusividad Térmicaunclassified
“…Cuando los precipitados de Te tienen un gran tamaño, la transmisión IR es inferior al 60% [13]. Los precipitados e inclusiones de Te introducen tensiones y distorsionan la estructura cristalina [3], lo que reduce la transmisión óptica de los cristales y degrada las propiedades eléctricas [13]. En nuestras muestras se midió la transmisión IR por espectrometría infrarroja de transformada de Fourier (FTIR) [10].…”
Section: Difusividad Térmicaunclassified
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“…The study of the surfaces is supported by Raman spectroscopy and ellipsometry. Previous scanning probe microscopy (SPM) studies proved to be informative for characterization of CdTe surface behavior after various surface treatments, including selective etching after annealing [8], and sputter-anneal processing [9]. We applied semi-contact mode and phase contrast imaging for characterization of oxidized surfaces.…”
Section: Introductionmentioning
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