Secondary electron contrast modulation in SU‐8 photoresist films exposed holographically

Abstract

We report a Secondary Electron (SE) contrast modulation observed in scanning electron microscope photographs of the cross-section of SU-8 photoresist films exposed holographically. The modulation occurs along the whole depth of the sample and its contrast disappears when the samples are submitted to the post exposure bake (PEB). Diffraction and atomic force microscopy measurements of the samples were performed before and after PEB to investigate this modulation.The results indicate that this SE emission contrast modulation comes from the spatial chemical modulation generated by the photolysis during the exposure of the SU-8 films. V C 2009 Wiley Periodicals, Inc. J Polym Sci Part B: Polym Phys 48: 226-230, 2010

Estudo de materiais fotossensíveis utilizando exposições holográficas

“…Para nossa surpresa ao invés de observarmos uma modulação em relevo, o que observamos foi uma modulação de brilho no volume do filme cujo período coincidia com o período do padrão de interferência ao qual a amostra havia sido exposta. Esta observação gerou um artigo recentemente publicado[79].Para verificar se este efeito também era observado em outros tipos de fotorresina SU-8, preparamos também amostras de outros lotes de fotorresina negativa SU8 que havia no laboratório. Em particular utilizamos um lote da resina SU8-50, que havia sido adquirido muito antes e que produz filmes muito mais espessos (~50 µm).…”