Search for positron localization near transition-metal solutes of negative effective charge in Ni and Cu

Hunter, D.M.; Grynszpan, R.I.; Arrott, A. S.

doi:10.1051/jp4:19937318

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“…Besides trapping at open-volume defects, a difference in the chemical affinity of the positron for atoms of different nature may either attract the probe to, or repulse it from, particular sites of localization [27]. The change in re-emission properties with increasing annealing temperature, observed in figure 3b for W-Ni alloys, which evolves from a nickel-like to a tungsten-like behaviour, most likely proceeds from such an affinity effect.…”

Section: Examples Of Sub-surface Investigationsmentioning

confidence: 99%

Positron depth profiling in solid surface layers

Grynszpan¹,

Anwand²,

Bräuer³

et al. 2007

Ann. Chim. Sci. Mat.

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-We briefly review the principles of the Doppler Broadening of the positron annihilation radiation line, the most common technique used in defect depth profiling of solids relevant to dcbeams. We focus on some specific examples of Slow Positron Implantation Spectroscopy (SPIS) investigations related to technological issues such as, for instance, i) phase transitions in metal coatings possibly induced by internal stresses, ii) substrate pre-treatment or annealing dependence of defect profiles at metal/polymer interfaces or in the deposited layers, and. iii) near-surface structural modification by ion implantation in ceramics and multilayers. In each case we elaborate on the possibility of using SPIS results and possible depth profile features as criteria for on-or off-line quality control in industrial processes. We finally conclude with an overall picture of the operating characteristics of positron annihilation techniques.Résumé -Profils d'implantation des positons dans des couches de surface des solides. Nous passons brièvement en revue les principes de la méthode de l'élargissement Doppler de la raie d'annihilation des positons, technique la plus fréquemment utilisée en analyse de surface des solides par faisceau à courant continu. Nous considérons quelques d'applications technologiques de la caractérisation par spectroscopie d'implantation des positrons lents (SPIS), telles que, par exemple, i) les transitions de phases éventuellement induites par contraintes internes dans les dépôts métalliques, ii) l'influence de prétraitements du substrat ou de recuits sur le profil des défauts aux interfaces métal/polymère ou dans des couches déposées, et iii) la modification structurale par implantation ionique en proche surface de céramiques et de multicouches. Dans tous les cas nous envisageons l'éventualité d'utiliser la technique SPIS et les particularités des profils de défauts comme critères dans des contrôles de qualité en ligne ou en post-production industrielle. Enfin, nous concluons par un panorama des caractéristiques de mise en oeuvre des techniques de spectroscopie d'annihilation des positrons.

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Section: Examples Of Sub-surface Investigationsmentioning

confidence: 99%