2007
DOI: 10.1590/s0103-50532007000800013
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Retention of copper(II) metal ions in a silicon-glass microfluidic device

Abstract: Neste trabalho é descrita a construção de um microssistema em silício para retenção de íons cobre(II). Processo fotolitográfico convencional foi empregado para transferir o padrão de microcanais para o substrato de silício. Utilizando corrosão por íons reativos (RIE) com plasma de SF 6 , foram produzidos canais de 50 μm de largura e 10 μm de profundidade. Os canais foram selados com vidro de borossilicato utilizando-se a técnica de soldagem anódica. Para promover a retenção dos íons cobre(II), a superfície dos… Show more

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