2014 IEEE 34th International Scientific Conference on Electronics and Nanotechnology (ELNANO) 2014
DOI: 10.1109/elnano.2014.6873949
|View full text |Cite
|
Sign up to set email alerts
|

Relaxation processes analysis in heterotransistors with systems of quantum wells and quantum dots

Help me understand this report

Search citation statements

Order By: Relevance

Paper Sections

Select...
1
1
1

Citation Types

0
1
0
2

Year Published

2016
2016
2019
2019

Publication Types

Select...
3

Relationship

0
3

Authors

Journals

citations
Cited by 3 publications
(3 citation statements)
references
References 5 publications
0
1
0
2
Order By: Relevance
“…Інерційність цього процесу визначається концентраційним часом релаксації τ п , який знаходиться, як і час релаксації імпульсу τ р , усереднюванням швидкості міждолинного розсіяння. У роботі [12] на основі аналізу результатів розрахунку часів релаксації, поле-швидкісних і енергетичних характеристик для основних механізмів розсіяння у напівпровідниках типа А 3 В 5 показано переважний вплив на розігрів електронів полярного оптичного і міждолинного розсіяння. Окремо у даному розділі досліджується вплив розсіяння на сплавному потенціалі.…”
Section: ефекти розмірного квантування у гетероструктурахunclassified
“…Інерційність цього процесу визначається концентраційним часом релаксації τ п , який знаходиться, як і час релаксації імпульсу τ р , усереднюванням швидкості міждолинного розсіяння. У роботі [12] на основі аналізу результатів розрахунку часів релаксації, поле-швидкісних і енергетичних характеристик для основних механізмів розсіяння у напівпровідниках типа А 3 В 5 показано переважний вплив на розігрів електронів полярного оптичного і міждолинного розсіяння. Окремо у даному розділі досліджується вплив розсіяння на сплавному потенціалі.…”
Section: ефекти розмірного квантування у гетероструктурахunclassified
“…The inertia of this process is determined by the concentration relaxation time  п which is, as well as the relaxation time of the pulse  р by averaging the inter-valley scattering rate. In [12], based on the analysis of the results of calculation of relaxation times, field-velocity and energy characteristics for the main scattering mechanisms in semiconductors of type А 3 В 5 , the predominant influence on the heating of polar optical and intervalley scattering electrons is shown. The influence of scattering on the alloying potential was investigated separately in these calculations.…”
Section: Process Simulation In a Heterotransistormentioning
confidence: 99%
“…Застосування вбудованих у приповерхневий провідний шар польової структури квантових точок пов'язано, у першу чергу, з їх впливом на фононні механізми розсіювання носіїв заряду. У роботах [7][8][9] проведено аналіз релаксаційних процесів субмікронного (довжина затвору 0,2 мкм) GaAs-AlGaAs гетероструктурного транзистора з двома квантовими ямами і двома системами вбудованих квантових точок (КТ). На відміну від звичайної структури гетеротранзистора, моделювання процесів переносу носіїв заряду такої структури з урахуванням найбільш суттєвих механізмів розсіювання (міждолинного, фононного оптичного і акустичного, розсіювання на домішках), урахуванням квантування енергетичних рівнів у КТ і емісії електронів з квантових точок свідчить про збільшення середньої дрейфової швидкості електронів не менш ніж 1,5 рази.…”
Section: підходи щодо реалізації сенсорних структурunclassified