Die im Ultra‐Hochvakuum hergestellten Nickel‐Kupfer‐Legierungsfilme zeigen bei 300‐380°C anhaltende Aktivität für die Äthan‐Deuterium‐Austa:uschreaktion bis zu niedrigem (4%) Nickel‐Anteil; die Aktivität ist jedoch im Vergleich mit der von reinem Nickel herabgesetzt.