“…Отметим, что ни в одной из работ [7,11,[20][21][22] не приводится значение парциального давления P H 2 O паров H 2 O в атмосфере, в которой происходил отжиг кристалла. Однако этот параметр, несомненно, должен влиять на результаты термохимической обработки, так как отжиг НЛ в чистых парах H 2 O или D 2 O уже при 773 K приводит к сильному восстановительному эффекту и резкому увеличению оптической плотности НЛ в видимом диапазоне [23,24], но не влияет на значение c H [11].…”