Recubrimientos decorativos de Ti, TiN y TiO₂ sobre vidrio, depositados en vacío mediante pulverización por arco eléctrico

Abstract

La técnica de pulverización por arco eléctrico en vacío permite un control eficaz del proceso de deposición, ya que la temperatura del sustrato permanece baja durante dicho proceso. Además, mediante esta técnica pueden llevarse a cabo recubrimientos sobre superficies no conductoras y resulta posible la utilización de máscaras de plástico, colocadas entre la fuente y el sustrato a recubrir. En este trabajo se han llevado a cabo recubrimientos de Ti, TiN y TiO2 sobre vidrio arquitectónico. Los recubrimientos se han realizado con y sin dibujos, aplicados a través de máscaras. Se han estudiado algunas características de estos recubrimientos, como son la rugosidad, composición y resistencia contra la corrosión. Los análisis se han llevado a cabo mediante técnicas de microscopía de fuerza atómica, espectroscopía Auger y ensayos electroquímicos. Finalmente, se ha realizado un análisis comparativo con resultados obtenidos mediante otras técnicas de deposición. Palabras clave: deposición con arco en vacío, nitruro de titanio, óxido de titanio, vidrio. Vacuum arc deposition of Ti, TiN and TiO 2 decorative coatings on glassIn a vacuum arc discharge, highly ionised species are formed, which permits an effective control of the deposition process and, particularly, to deposit Ti, TiN and TiO 2 coatings on non-conducting materials like glass. Moreover, this technique allows us to position a mask between the substrates and the sheets to be coated. Another advantage of the vacuum arc technology is the low substrate temperature during the deposition. Data on the roughness, composition and corrosion resistance in architectural glass mask-coated with titanium nitride and oxide are presented and analysed in this work. A comparative analysis is made with reactive direct current sputtering and plasma enhanced chemical vapour deposition techniques.