1978
DOI: 10.1051/rphysap:019780013012061500
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Profiles of recombination and transport parameters in thin sos films

Abstract: Résumé. 2014 Bulk Hall measurements are used, besides the determination of mean drift and Hall mobilities, to study the transport inhomogeneities; a linear decrease of the mobility with the distance from the Si/SiO2 interface would lead to a relatively large electron mobility near this interface (|03BCn| ~ 0.1 m2 V-1 s-1).

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“…(« Silicon On Sapphire »). Cette technologie, à cause même de ses défauts notamment à l'interface Si-A'20., [ 17] est a priori un bon matériau pour la réalisation de MD : l'épaisseur standard des couches de Si épitaxié (b = 0,65 ym) est légèrement inférieure à la longueur de diffusion des porteurs et les deux interfaces (Si-Si02 et Si-A'20,) présentent macroscopiquement des taux de recombinaison très différents ce qui, d'après la figure 3, doit conduire à une sensibilité optimale.…”
Section: Réalisations Expérimentalesunclassified
“…(« Silicon On Sapphire »). Cette technologie, à cause même de ses défauts notamment à l'interface Si-A'20., [ 17] est a priori un bon matériau pour la réalisation de MD : l'épaisseur standard des couches de Si épitaxié (b = 0,65 ym) est légèrement inférieure à la longueur de diffusion des porteurs et les deux interfaces (Si-Si02 et Si-A'20,) présentent macroscopiquement des taux de recombinaison très différents ce qui, d'après la figure 3, doit conduire à une sensibilité optimale.…”
Section: Réalisations Expérimentalesunclassified