Precise microstructuring of indium-tin oxide thin films on glass by selective femtosecond laser ablation

Krause, Stephan; Miclea, P.-T.; Steudel, Franziska; Schweizer, Stefan; Seifert, G.

doi:10.1051/epjpv/2012013

Cited by 32 publications

(17 citation statements)

References 13 publications

(15 reference statements)

Supporting

Mentioning

Contrasting

Unclassified

Order By: Relevance

“…Разрешения, близкие к максимальным, дости-гались при плотности мощности в пределах (0,7...1,2)·10 7 Вт/см 2 . Отметим, что это существенно меньше теоретических значений, полученных, на-пример, в [11].…”

Section: анализ результатовunclassified

Application of thin molybdenum films in contact masks for manufacturing the micro-relief of diffractive optical elements

Волков¹,

Моисеев²,

Полетаев³

et al. 2014

Computer Optics

View full text Add to dashboard Cite

1 Институт систем обработки изображений РАН, 2 Самарский государственный аэрокосмический университет имени академика С.П. Королёва(национальный исследовательский университет) (СГАУ), 3 ООО «Интерлаб» Аннотация Исследованы параметры микроструктур, полученных по технологии лазерной термохи-мической записи в плёнках молибдена с толщинами 17, 35 и 70 нм, нанесённых на стеклян-ные и кварцевые подложки. Построена зависимость пространственного разрешения микро-структур от мощности лазерного излучения для различных материалов оснований. Показа-но, что более высокого пространственного разрешения микроструктур можно добиться в плёнках молибдена толщиной 17 нм.Ключевые слова: микроструктуры, лазерная абляция, термохимическая запись, плёнки молибдена, стеклянная и кварцевая подложки. ВведениеПредставляется перспективным использование в различных областях науки и техники дифракционных оптических элементов (ДОЭ), которые представляют собой пластины с формированной на их поверхности микроструктурой [1,2]. Важнейшим этапом изготов-ления микрорельефов является получение контакт-ных масок, устойчивых к плазмохимическим процес-сам, необходимым для передачи рассчитанной мик-роструктуры ДОЭ в подложку. Ранее для этого были распространены литографические («мокрые») техно-логии [3 -8].В настоящее время для уменьшения размеров элементов микроструктур широко применяется ме-тод формирования топологического рисунка непо-средственно в исходном слое материала контактной маски без использования фоторезистов. Он основан на локальной обработке тонких плёнок хрома сфо-кусированным лазерным излучением [9, 10], под воздействием которого происходит термохимиче-ское преобразование поверхностного слоя рабочего материала.Недостаток данной технологии заключается в низком разрешении, около 0,8 мкм. Поэтому актуаль-на задача разработки технологических приёмов, по-зволяющих преодолеть этот барьер. Такой результат возможен за счёт поиска и применения материалов с контрастными характеристиками, позволяющими из-бирательно использовать максимум актинирующего излучения. В этом отношении известен ряд работ, где вместо хрома предлагаются различные альтернатив-ные материалы, такие как кремний, фосфид индия и оксиды различных металлов [11 -13]. В отличие от стандартной технологии все они предлагают форми-ровать микроструктуры путём испарения (абляции) материалов.В работе [14] была показана возможность абляции молибденовых плёнок толщиной около 0,5 мкм пико-секундным лазерным лучом с длиной волны 1064 нм, нанесённых на подслой нитрида кремния толщиной около 140 нм. Основанием служили стеклянные под-ложки толщиной 3 мм.Опираясь на [14], мы предложили подход, осно-ванный на абляции участков плёнки молибдена, под-вергнутых воздействию лазерного излучения [15].Цель настоящей работы заключается в исследова-нии геометрических параметров контактной маски, полученной по технологии лазерной абляции плёнок молибдена в зависимости от толщины плёнок, что по-зволит выработать оптимальные условия проведения технологического процесса. Методы и материалыОснованием служили оптичес...

show abstract

Section: анализ результатовunclassified

Application of thin molybdenum films in contact masks for manufacturing the micro-relief of diffractive optical elements

Волков¹,

Моисеев²,

Полетаев³

et al. 2014

Computer Optics

View full text Add to dashboard Cite

show abstract

“…Currently the ablation of metal films is widely used by laser radiation in such areas as semiconductor production, photo-electric devices, diffraction lattices and other hightechnology appendices [1][2][3][4][5][6][7][8][9]. In this field researches is actual the task of forming of the amplitude diffraction optical elements (DOE), and also the masking layers applied to transfer of a microrelief in a substrate is actual.…”

Section: Introductionmentioning

confidence: 99%

The Efficiency of Optical Microstructures Formed on Molybdenum Films

Poletayev¹,

Volotovskiy²

2016

Collection of Selected Papers of the II International Conference on Information Technology and Nanotechnology

View full text Add to dashboard Cite

Abstract.We have considered influence of technological errors of formation of the amplitude optical lattices made by method of a laser ablyation of thin films of molybdenum on distribution of diffraction orders in a distant zone of diffraction. For this purpose we have digitized a profile of a site of the created diffraction structure with the subsequent transformation to amplitude or phase functions of a transmission.Keywords: diffractive microrelief, metallic mask, laser ablation, thermochemical recording, film molybdenum, reactive ion etching.Citation: Poletaev SD, Volotovsky SG. The efficiency of optical microstructures formed on molybdenum films.

show abstract

“…nanosecond [5][6][7][8]. Recently, femtosecond laser pulses for processing ITO thin film have been investigated with positive results [9][10][11][12], e.g. selectively removing the ITO and leaving the desired ITO pattern as transparent electrodes for devices.…”

Section: Introductionmentioning

confidence: 99%