2019
DOI: 10.1016/j.jcrysgro.2019.04.002
|View full text |Cite
|
Sign up to set email alerts
|

Optimization of size uniformity and dot density of InxGa1−xAs/GaAs quantum dots for laser applications in 1 µm wavelength range

Help me understand this report

Search citation statements

Order By: Relevance

Paper Sections

Select...
2

Citation Types

0
1
0
1

Year Published

2020
2020
2023
2023

Publication Types

Select...
6
1

Relationship

0
7

Authors

Journals

citations
Cited by 8 publications
(2 citation statements)
references
References 20 publications
0
1
0
1
Order By: Relevance
“…Первый из подходов по снижению неоднородного уширения состоит в использовании субмонослойной миграционно-стимулированной эпитаксии (субмонослойного осаждения), основанной на формировании чередующихся субмонослойных слоев InAs/ (In)GaAs [11][12][13]19,20]. Из недостатков подхода стоит отметить сложность контроля состава КТ в силу инерционности переключения заслонок материалов в установках молекулярно-пучковой эпитаксии (МПЭ).…”
Section: Introductionunclassified
“…Первый из подходов по снижению неоднородного уширения состоит в использовании субмонослойной миграционно-стимулированной эпитаксии (субмонослойного осаждения), основанной на формировании чередующихся субмонослойных слоев InAs/ (In)GaAs [11][12][13]19,20]. Из недостатков подхода стоит отметить сложность контроля состава КТ в силу инерционности переключения заслонок материалов в установках молекулярно-пучковой эпитаксии (МПЭ).…”
Section: Introductionunclassified
“…The first of the approaches to reduce inhomogeneous linewidth broadening is to use submonolayer migration-stimulated epitaxy (submonolayer deposition) based on the formation of alternating submonolayer layers InAs/(In)GaAs [11][12][13]19,20].…”
Section: Introductionmentioning
confidence: 99%