2009
DOI: 10.1117/12.809514
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Optical characterization of the heat-affected zone in laser patterning of thin film a-Si:H

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“…For P3 processing, it is believed that increase in the crystallinity can be correlated to an increase in the parasitic conductivity between front-and back-contact at the P3 scribe edge [11,13,26,30]. Further possible mechanisms of shunting are alloying of the contact materials with the absorber, thermal dopant diffusion, debris redeposition at the scribe edge, and short-circuiting by flake formation.…”
Section: Microstructural Propertiesmentioning
confidence: 95%
“…For P3 processing, it is believed that increase in the crystallinity can be correlated to an increase in the parasitic conductivity between front-and back-contact at the P3 scribe edge [11,13,26,30]. Further possible mechanisms of shunting are alloying of the contact materials with the absorber, thermal dopant diffusion, debris redeposition at the scribe edge, and short-circuiting by flake formation.…”
Section: Microstructural Propertiesmentioning
confidence: 95%
“…4A. In addition, a higher thermal damage to the thin films is expected, which in turn can create regions with a higher defect density and induce crystallization [6] of the silicon thin films Furthermore, owing to the Gaussian nature of the power distribution, energy excess can produce thermal effects like inducing a bulging of the back contact (Fig. 4B) due to the Gaussians queues.…”
Section: 1optical Characterization Of Back Contact Patterningmentioning
confidence: 99%
“…En cuanto a las tecnologías basadas en lámina delgada (CdTe, CIS/CIGS o a-Si:H) las técnicas láser adquieren un papel todavía de mayor relevancia y de claro carácter estratégico. En concreto, las técnicas de ablación láser en módulos de lámina delgada (laser scribing) [Molpeceres10,Lauzurica11] han demostrado ser las más eficaces, e industrialmente más favorables, para los procesos de interconexión monolítica de estos dispositivos. Algo similar ocurre en la carrera, particularmente activa en la actualidad, por conseguir desarrollar células cristalinas de alta eficiencia, donde cabe destacar las nuevas técnicas para definición de contactos con láser (mediante contacto puntual o con procesos de transferencia) [Schneiderlochner03,Piqué08,Ferre11], y el dopado puntual con láser [Orpella08,Dunsky12].…”
Section: Procesado Láser En La Industria Fotovoltaicaunclassified
“…Es tal el impacto actual de la tecnología láser en la fabricación fotovoltaica [Niyibizi12,Colville09], y son tan espectaculares las perspectivas de crecimiento futuras, que cabe señalar que este ámbito aparece, a nivel industrial, como el de mayor dinamismo en el desarrollo de nuevas técnicas y sistemas láser, así como el de mayor potencial de mercado [Mayerhofer10]. Este hecho ha sido reconocido por las empresas del sector, tanto fabricantes de fuentes como integradores y desarrolladores de maquinaria láser, que han visto en estas aplicaciones un nicho de mercado que ha reorientado completamente su actividad en los últimos años [Molpeceres10,Colville10]. Cabe destacar, en el ámbito de aplicación láser en la industria fotovoltaica, la creación de contactos puntuales, emisores y dopado local, trasferencia de líneas conductoras y finalmente sinterizado selectivo láser.…”
Section: Resumen Del Capítulounclassified