2015
DOI: 10.1134/s1063783415040046
|View full text |Cite
|
Sign up to set email alerts
|

Optical and electrical properties of GaN: Si-based microstructures with a wide range of doping levels

Help me understand this report

Search citation statements

Order By: Relevance

Paper Sections

Select...
2
1
1
1

Citation Types

0
6
0
3

Year Published

2016
2016
2022
2022

Publication Types

Select...
6

Relationship

1
5

Authors

Journals

citations
Cited by 12 publications
(9 citation statements)
references
References 24 publications
0
6
0
3
Order By: Relevance
“…Actually, it's hard to replace the Ga atom within the crystal for Si, even the Si/Ga reach to 0.6 when the silane flux is 40 sccm. Agekyan et al reported that the typical concentration of Si incorporated into gallium nitride was about 10 19 cm À3 ) [22], and the concentrations just increase slightly as the silane flux increase heavily, as shown in Fig. 4a.…”
Section: Resultsmentioning
confidence: 81%
“…Actually, it's hard to replace the Ga atom within the crystal for Si, even the Si/Ga reach to 0.6 when the silane flux is 40 sccm. Agekyan et al reported that the typical concentration of Si incorporated into gallium nitride was about 10 19 cm À3 ) [22], and the concentrations just increase slightly as the silane flux increase heavily, as shown in Fig. 4a.…”
Section: Resultsmentioning
confidence: 81%
“…In gallium nitride at such high doping levels, an impurity band is formed which overlaps with the conduction band. 27,28 This provides the constant free electron concentration in a wide temperature range from 4.2 to 300 K and higher.…”
Section: Samples and Experimental Techniquementioning
confidence: 99%
“…Ушире-ние экситонного спектра отражения от этой области кристалла не сопровождается энергетическим сдвигом, и можно сделать вывод, что уширение экситонных резонансов определяется высокой концентрацией дефек-тов, а не механическими напряжениями. Отметим, что подобное уширение экситонной структуры наблюдалось в спектрах отражения эпитаксиальных слоев GaN с концентрацией кремния, превышающей 10 18 cm −3 [4]. 3.2.…”
Section: рис 3 резонансы свободных экситоновunclassified
“…Для сравнения на рис. 5 приведены спектры люминесцен-ции слоев GaN толщиной 4 µm, выращенных методом хлорид-гидридной эпитаксии c диапазоном концентра-ции донорной примеси кремния 10 16 −10 19 cm −3 [4]. Спектр излучения поверхности образца в точке 2 содержит полосы бесфононного излучения свободных экситонов, экситонов, связанных на нейтральных доно-рах и акцепторах, а также их фононные реплики, соот-ветствующие рождению до пяти продольных оптических (LO)-фононов решетки GaN с энергией 91 meV (принад-лежность отдельных фононных реплик к различным ме-ханизмам излучения указана на рис.…”
Section: рис 3 резонансы свободных экситоновunclassified
See 1 more Smart Citation