The point defect concentration in Te-rich CdTe and Hg, -,Cd,Te annealed at various temperatures has been estimated from precision lattice parameters using a simple continuum inclusion model and compared with densities of electrically charged defects determined by high-temperature Hall and conductivity measurements. The nonstoichiometry is realized by cation vacancies. Dependent on the CdTe content, the ratio of total to charged defect concentrations varies between about unity for HgTe-rich composition and 75 for CdTe. Therefore, it is necessary to distinct between "electrical" and "chemical" stability regions.In Te-reichem CdTe und Hg, -,Cd,Te wurden die durch Tempern bei verschiedenen Temperaturen eingestellten Punktdefektkonzentrationen aus Prazionsgitterkonstanten mit Hilfe eines einfachen Kontinuums-EinschluB-Modells abgeschatzt und mit der Dichte geladener Defekte, die durch Hochtemperatur-Hall-und -Leitfahigkeitsmessungen bestimmt wurde, verglichen. Die Nichtstochiometrie wird durch Kationenleerstellen realisiert. In Abhangigkeit von CdTe-Gehalt variiert das Verhaltnis der Konzentration der Gesamtzahl zu dem der geladenen Defekte zwischen annahernd eins fur HgTe-reiche Zusammensetzung und 75 fur CdTe. Es ist deshalb notwendig, zwischen ,,elektrischem" und ,,chemischem" Stabilitatsgebiet zu unterscheiden.