“…Преимущества этого метода перед другими заключаются в том, что существует большой выбор летучих МОС, метод работает при относительно невысоких температурах (573−873 K), летучие продукты реакции выводятся из зоны осаждения твердой фазы покрытия, достигается высокая скорость осаждения и регулирования состава покрытия. Этот метод был использован нами ранее для формирования металлосодержащих наноструктурированных покрытий на поверхности МУНТ, как в виде сплошного слоя наноразмерной толщины, например, пиролитического железа (Fe/МУНТ) [4,5], хрома (Cr/МУНТ) [6], карбида титана (TiC/МУНТ) [7], так и в виде металлосодержащих наночастиц, например, рения (Re/МУНТ) [8], алюминия (Al/МУНТ) [9] и биметаллических ренийвольфрамовых нанодендритов (Re-W/МУНТ) [10]. Таким образом, используемый нами ранее метод MOCVD оказался весьма удачным для получения нанокомпозитов на основе МУНТ, поверхность которых декорирована различными металлосодержащими покрытиями или наночастицами.…”