New possibilities of applying fore-vacuum plasma sources in technological processes of electron-beam treatment of dielectric materials

Abstract

Новые возможности применения форвакуумных плазменных источников в технологических процессах электронно-лучевой обработки диэлектрических материалов Излагаются результаты применения форвакуумных плазменных электронных источников, полученные за по-следний год. К числу таких применений относятся: генерация пучковой плазмы в диэлектрической полости, испарение различных материалов с последующим осаждением покрытий, размерная обработка диэлектриче-ских материалов. Ключевые слова: плазменный электронный источник, форвакуум, пучковая плазма, диэлектрическая полость, испарение материалов, осаждение покрытий, электронно-лучевая фрезеровка.