Near-Surface Plasma Formation in Air with Exposure to Dual Laser Pulses at Two Wavelengths

Chumakov, A. N.; Bosak, N. A.; Panina, A. V.

doi:10.1007/s10812-017-0519-y

Cited by 4 publications

(1 citation statement)

References 11 publications

Supporting

Mentioning

Contrasting

Order By: Relevance

“…The use of coupled LR pulses (especially those that differ in wavelength) with an adjustable time interval and sequence order should provide an opportunity to enhance considerably the efficiency of ablation of materials, heating of ablation plasma, and generation of shock waves [9,16,17].…”

Section: Introductionmentioning

confidence: 99%

Silicon ablation in air by mono- and bichromatic laser pulses with wavelength 355 and 532 nm

et al. 2022

View full text Add to dashboard Cite

Ablation of silicon sample in air under irradiance of single anddouble laser pulses with wavelengths 355 and 532 nm was studied by means ofoptical and scanning electron microscopy, raman spectroscopy, profilometryof laser craters as well as video registration of plasma's plume radiationin time. Dependence of specific sample's material removal on laser fluenceand time interval between coupled pulses of bichromatic laser irradiance wasestablished. Spallation of silicon was found in broad range of irradianceparameters and parameters of craters formed by ablation and spallation underthe action of bichromatic laser radiation were determined. Keywords: nanosecond laser ablation, specific mass removal, surface modification, laser plasma dynamics, crater formation, spallation\

show abstract

Section: Introductionmentioning

confidence: 99%

Silicon ablation in air by mono- and bichromatic laser pulses with wavelength 355 and 532 nm

et al. 2022

View full text Add to dashboard Cite

show abstract

Silicon Plasma Heating in Air under Combined Bichromatic Laser Radiation at Wavelengths of 355 and 532 nm

Chumakov

Lychkoskyi

2022

J Appl Spectrosc

View full text Add to dashboard Cite

Morphological, optical and photoluminescent properties of a thin ZnO film on the Al2O3 substrate

Chumakov

Мухуров

Denisiuk

et al. 2018

Vescì Akademìì navuk Belarusì. Seryâ fizika-matematyčnyh navuk

Self Cite

View full text Add to dashboard Cite

Аннотация. Тонкие прозрачные проводящие пленки оксида цинка представляют интерес для применения в различных областях науки и техники, в том числе в антиобледенительных системах стекол в самолетах, в покрытиях, уменьшающих статический электрический заряд на панелях измерительных приборов, в электрических контактах к жидким кристаллам, электрохромных и электролюминесцентных индикаторах для дисплеев, разработках высокоэффективных солнечных элементов. Тонкие пленки оксида цинка на подложках из анодного оксида алюминия сформированы на пористой стороне и на барьерном слое γ-оксида алюминия при высокочастотном импульсно-периодическом лазерном осаждении в вакууме. Методом атомно-силовой микроскопии изучены морфологии полученных пленок и отмечены их различия в зависимости от стороны подложки. Экспериментально исследованы оптические свойства пленок в ближней ИК-области, а также особенности их фотолюминесцентных характеристик. Конструкции подложка Al 2 O 3-пленка ZnO в качестве чувствительного слоя могут быть применены для разработки сенсоров и тандемных солнечных элементов. Ключевые слова: высокочастотное импульсное лазерное осаждение, тонкие пленки, атомно-силовая микроскопия, оптические и морфологические свойства, фотолюминесцентные характеристики Для цитирования. Морфологические, оптические и фотолюминесцентные свойства тонких пленок ZnO на подложке Al 2 O 3 / А. Н. Чумаков [и др.] // Вес. Нац. акад. навук Беларусi.

show abstract

Near-Surface Plasma Formation in Air with Exposure to Dual Laser Pulses at Two Wavelengths

Cited by 4 publications

References 11 publications

Silicon ablation in air by mono- and bichromatic laser pulses with wavelength 355 and 532 nm

Silicon ablation in air by mono- and bichromatic laser pulses with wavelength 355 and 532 nm

Silicon Plasma Heating in Air under Combined Bichromatic Laser Radiation at Wavelengths of 355 and 532 nm

Morphological, optical and photoluminescent properties of a thin ZnO film on the Al2O3 substrate

Contact Info

Product

Resources

About