Получено уравнение роста наномембран полупроводниковых соединений III-V на подложках с одномерными массивами полосков в оксидной маске с учетом потока реэмиссии элемента группы III. Показано, что высота наномембран увеличивается с увеличением расстояния между ними и уменьшением ширины мембран. Кинетика роста наномембран на маскированных подложках и их морфология сильно отличаются от случая адсорбирующих подложек, что необходимо учитывать при проведении ростовых экспериментов. Ключевые слова: полупроводниковые соединения III-V, наномембраны, поток реэмиссии, скорость роста, моделирование.