Microscopie interférentielle X-UV : un outil pour l'étude des endommagements des surfaces optiques

Abstract

Résumé. Nous présentons des résultats récents concernant des premières investigations de microscopie interférentielle par laser X-UV d'endommagement optique. Le laser X-UV utilisé est un laser collisionnel en régime quasi-stationnaire émettant à 21.2 nm, développé au Prague Asterix Laser System (PALS, Prague, République Tchèque). Des échantillons de silice fondue de haute qualité, avec ou sans rayure, étaient irradiées en face avant par un laser bleu, correspondant au 3 ème harmonique du laser à iode du PALS (1.315 m), servant également à réaliser le laser X-UV à 21.2 nm. Celui-ci était utilisé, 5 ns après l'irradiation pour réaliser une imagerie microscopique et interférentielle de la face arrière de l'échantillon. Les résultats font apparaître des déformations locales transitoires. Des premières analyses mettent en évidence une probable variation de la rugosité de la surface. Cette démonstration expérimentale encourageante ouvre la voie à de futures investigations, notamment sur notre prochaine installation laser : LASERIX.