Metallurgische Behandlung begrenzter Werkstückbereiche durch Erzeugung von Schmelzspuren

Abstract

Neben dem heute in vielen Fertigungsbereichen eingeführten Fügeverfahren des Elektronenstrahlschweißens kann der Elektronenstrahl für eine thermische Behandlung in eng begrenzten Werkstückbereichen eingesetzt werden. Das Ziel einer solchen Behandlung ist beispielsweise ein sich nach sehr rascher Erstarrung bildendes Gefüge mit spezifischen Eigenschaften (Härte, Feinkörnigkeit) und die Verwirklichung bestimmter Legierungszusammensetzungen in eng begrenzten Bereichen. Zusatzmaterial in Drahtform wird hierzu während des Schweißprozesses zugegeben. Einsatzmöglichkeiten werden an Aluminium, Nickel und Stahl aufgezeigt.

Exact multielectronic electron-concentration-dependent ground states for disordered two-dimensional two-band systems in the presence of disordered hoppings and finite on-site random interactions

“…at and below quarter filling) can be always written in the form of Eq. (17). As a consequence, for N = N Λ the ground-state becomes…”

“…In Eq. (17), the N j product must be taken over j sites which can be arbitrary chosen, and different j values must be related to strictly different lattice sites. The ground-state wave function ofĤ given in Eq.…”

“…In these models, the non-periodicity is considered as introducing the effect of the disorder in the Schrödinger equation, and is taken into account in different ways, for example as non-analytic behavior in the potential 15 , incommensurate potential 16 , quasiperiodicity 17 , topological disorder connected to tesselation 18 , local bond-orientational order 19 , etc, these possibilities presenting also interdependences between them. This way of describing the disorder cannot be considered as representing the level of simple toy models only, since besides the fact that real physical systems holding such properties are known 2,15,16,19 , there are concrete cases where it is also known that a such type of representation (for example through quasiperiodicity) give analogous behavior for the system as random or disordered potentials 15,16 .…”