An zwei Qualitaten kommerzieller A1,03-Keramik unterschiedlichen Si0,-Gehalts wurde an Doppeltorsionsproben die langsame RiRausbreitung im Temperaturbereich von 25 bis 1000 "C untersucht. Es wurden drei Bereiche gefunden, die eine unterschiedliche Abhangigkeit der effektiven Aktivierungsenthalpien vom Spannungsintensitatsfaktor aufweisen. Bei niedrigen Temperaturen steuert im wesentlichen die Reaktion des Wasserdampfes der umgebenden Luft mit der Korngrenzenphase die RiSausbreitung, bei hohen Temperaturen spielt die Enveichung dieser Korngrenzenphase die entscheidende Rolle.
Activation Enthalpies and Mechanisms of Subcritical Crack Propagation in Aluminium Oxide CeramicsProgressive crack propagation has been investigated in the temperature range between 25 and 1000 "C for two commercial varieties of A1,03 ceramic, using double torsion specimens. 3 different temperature regions have been found, each of them with a different dependence of the effective activation enthalpie on the stress intensity factor. While at low temperatures the crack propagation rate is mainly controlled by the reaction of the grain boundary phase with the water vapor partial pressure of the environment, the softening of this phase is the predominent factor at high temperatures.