Mécanisme d'émission électronique dans les structures mim et propagation des électrons dans les métaux

Niquet, G; Flamion, P.J.; Vernier, P.

doi:10.1016/0040-6090(77)90032-3

Thin Solid Films

1977

DOI: 10.1016/0040-6090(77)90032-3

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Mécanisme d'émission électronique dans les structures mim et propagation des électrons dans les métaux

G Niquet¹,

P.J. Flamion²,

P. Vernier³

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Influence du métal de l'anode sur l'existence d'une résistance différentielle négative dans des structures MIM

Bernède

1983

Phys. Stat. Sol. (a)

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L'évolution des caractéristiques I–U de structures AlAl2O3M est étudiée en fonction du métal de l'électrode M et de la pression d'oxygène. Trois types de comportement sont observés: le comportement classique à savoir existence d'une RDN après formation le tout sous vide pour M = Au, Al, Pd. Impossibilité de formation pour M = Cr, Mo, Te. Formation et RDN toujours présentes quelque soit la pression pour M = Ag, Cu, In, Sn, Bi. Reprenant le modèle filamentaire ces nouveaux résultats nous permettent de préciser la composition des filaments.

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Influence du métal de l'anode sur l'existence d'une résistance différentielle négative dans des structures MIM

Bernède

1983

Phys. Stat. Sol. (a)

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Distribution en énergie des électrons émis par des structures en couches minces métal-isolant-métal (Al/SiO-B2O3/Au)

1980

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Sur l'origine de la lumière émise dans l'ir par des structures Al-SiO-Au et Al-Al2O3-Au polarisées sous vide

Delaunay¹,

Ropars²,

Despujols³

1981

Thin Solid Films

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Influence du métal de l'anode sur l'existence d'une résistance différentielle négative dans des structures MIM

Influence du métal de l'anode sur l'existence d'une résistance différentielle négative dans des structures MIM

Distribution en énergie des électrons émis par des structures en couches minces métal-isolant-métal (Al/SiO-B2O3/Au)

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