2010
DOI: 10.1364/oe.18.025102
|View full text |Cite
|
Sign up to set email alerts
|

Lithographic fabrication of diffractive optical elements in hybrid sol-gel glass on 3-D curved surfaces

Abstract: We demonstrate the lithographic fabrication of diffractive optical elements (DOEs) in hybrid SiO2/TiO2 sol-gel glass on 3-D curved surfaces. The concentric circular gratings with periods of 20 μm, 10 μm and 5 μm have been fabricated in sol-gel glass on concave lens by laser direct writing successfully. Continuous 3-Dimensional surface relief with a height of 435 nm, 110 nm and 50 nm has been obtained for the period of 20 μm, 10 μm and 5 μm respectively. The optical test results of the fabricated DOE shows only… Show more

Help me understand this report

Search citation statements

Order By: Relevance

Paper Sections

Select...
3

Citation Types

0
3
0
1

Year Published

2012
2012
2023
2023

Publication Types

Select...
7
1

Relationship

0
8

Authors

Journals

citations
Cited by 16 publications
(4 citation statements)
references
References 16 publications
(21 reference statements)
0
3
0
1
Order By: Relevance
“…Задача систем автоматической фокусировки излучения на рабочих поверхностях заключается в совмещении без участия глаза оператора плоскости наилучшей фокусировки лазерного пучка с поверхностью обрабатываемой детали [1][2][3]. Как правило, такие системы используются в лазерных технологических установках с короткофокусным объективом и состоят из чувствительного элемента -датчика расстояния и привода, смещающего объектив.…”
Section: Introductionunclassified
“…Задача систем автоматической фокусировки излучения на рабочих поверхностях заключается в совмещении без участия глаза оператора плоскости наилучшей фокусировки лазерного пучка с поверхностью обрабатываемой детали [1][2][3]. Как правило, такие системы используются в лазерных технологических установках с короткофокусным объективом и состоят из чувствительного элемента -датчика расстояния и привода, смещающего объектив.…”
Section: Introductionunclassified
“…The methods researched were laser direct writing lithography, 1,2 capillary force lithography, 3 step-and-ash lithography 4 and others. [5][6][7][8] The laser direct writing method uses the focused beam spot to dene the patterns point by point, which is hence very inefficient. For capillary force lithography, the pattern is formed by driving the uidic polymer into the capillary cavity under elevated temperature.…”
Section: Introductionmentioning
confidence: 99%
“…Large amounts of micro/nano structures are created using direct writing optical lithography approaches [16]- [18]. These methods can often achieve a considerably higher exposure speed and they can also be more versatile.…”
Section: Introductionmentioning
confidence: 99%