Les dépôts en couches minces par ablation laser en régime d'impulsions ultra-courtes : état de l'art et perspectives

Abstract

Resume : Le developpement recent de sources femtosecondes de tres fortes intensites (10 14 -10 15 W/cm 2 ) ouvre des perspectives nouvelles au precede de depot en couches minces par photo-ablation, en raison notamment, du caractere athermique de 1'interaction laser-matiere en impulsions ultra-courtes, et de la generation de plasmas tres energetiques. Apres avoir rappele les micanismes fondamentaux mis en jeu dans ce regime et les consequences attendues sur les proprietes des depots, nous ferons un bilan des travaux realises dans ce domaine, qui concernent tres majoritairement les films de carbone. Nous tenterons aussi de degager les perspectives de cette technique, liees en partie au developpement futur des sources femtosecondes.