2014
DOI: 10.15222/tkea2014.4.50
|View full text |Cite
|
Sign up to set email alerts
|

Ionization annealing of semiconductor crystals. Part one: theoretical background

Abstract: During irradiation of semiconductor crystals with powerful (high current) pulsed high-energy electron beams, a new type of annealing has been obtained. We could obtain new results and to find out physical nature of this phenomenon due to short and powerful bunches of electrons with high energy. Given its theoretical justification, the new annealing type has been called the "ionization annealing".

Help me understand this report

Search citation statements

Order By: Relevance

Paper Sections

Select...
1

Citation Types

0
0
0
1

Year Published

2020
2020
2020
2020

Publication Types

Select...
2

Relationship

1
1

Authors

Journals

citations
Cited by 2 publications
(1 citation statement)
references
References 1 publication
0
0
0
1
Order By: Relevance
“…Наряду с высокими энергетическими параметрами, такой материал обладает большей оптической однородностью, поскольку роль собственных дефектов в условиях высокой концентрации свободных носителей заряда и в присутствии мелких легирующих примесей менее существенна [12,13]. Установлено, что легированные неоном методом ионной имплантации кристаллы CdS (N  10 18 см -3 ) обладали наиболее высокой однородностью свечения при сканировании пучком электронов вдоль грани резонатора (рис.…”
Section: экспериментальные результаты и обсуждениеunclassified
“…Наряду с высокими энергетическими параметрами, такой материал обладает большей оптической однородностью, поскольку роль собственных дефектов в условиях высокой концентрации свободных носителей заряда и в присутствии мелких легирующих примесей менее существенна [12,13]. Установлено, что легированные неоном методом ионной имплантации кристаллы CdS (N  10 18 см -3 ) обладали наиболее высокой однородностью свечения при сканировании пучком электронов вдоль грани резонатора (рис.…”
Section: экспериментальные результаты и обсуждениеunclassified