Investigation into the Influence of Fractal-Matrix Structurizers on the Formation and Growth of Nanostructures

Self-organization as the rational choice of the direction of a chemical process

“…The next step in the understanding of self-organizing processes from the standpoint of the nanostate can consists in investigating metal ultrathin (~0.1-0.3 µm) films prepared by magnetron sputtering onto silicon and glasses (Fig. 3) [42][43][44][45]. If the film is formed under "normal" conditions, this is a conventional film prepared by magnetron sputtering with the structure reproducing the structure of the substrate used for its deposition.…”

Fractal Properties of Nanosized Films of Nickel and Chromium

“…Однако, для наноразмерных пленок хрома, полученных методом термовакуумного напыления, не удавалось получить фрактальные структуры на всей площади поверхности пленки [7,8] Имеется мнение [9,10], что параметр фрактальной размерности может и должен использоваться в качестве эффективной характеристики развитости микро-и наноструктуры шероховатой поверхности, а величина фрактальной размерности эквивалентно заменяет целый комплекс амплитудных и шаговых характеристик шероховатости поверхности. Однако, как правило, в технологических процессах требуется не только использовать наноразмерные пленки с заданным значением фрактальной размерности, но и производить контроль определенных высотных параметров, а иногда и требуется комплексный учет всех вышеперечисленных параметров [11][12][13]. Современные технологии искусственного создания деталей рельефа [14][15][16][17] уже позволяют обеспечивать воспроизводимость условий для формирования наноразмерных металлических пленок с фрактальной структурой на твердых поверхностях.…”