Influence of the continuous mechanical renewal of the electrode surface on the effective activation energy of copper deposition on a copper cathode in the Tafel potential region

Quasiperiodicidade na eletrodeposição da liga Cu/Sn

“…Diferentes sistemas eletroquímicos, quando limitados por difusão, possuem baixa energia de ativação aparente com magnitudes semelhantes, de 10 a 20 kJ mol -1 . Esses incluem experimentos numéricos para condições cinéticas mistas [75] , reação de redução de oxigênio em ligas de platina [76] , deposição de cobre [77] e redução de oxigênio com diferentes eletrólitos [78] . Uma referência importante a ser destacada sobre esse assunto é o recente trabalho de Azpeitia et al [79] .…”