“…1 < n . Важливим є те, що значення поверхневої концентрації за-ряджених донорів Завдяки існуванню сучасних нанотехноло-гій [3] змінювати висоту бар'єру та електричні характеристики діодів Шотткі, крім легуван-ням, можна введенням шару КТ у контактую-чий з металом напівпровідник [4]. Крім цього, як було показано в експериментальній роботі [5] введення квантових точок InAs у квантову яму GaAs поблизу границь гетероструктури AlAs/GaAs/AlAs приводить до збільшення на порядок дрейфової швидкості носіїв струму у вузьких квантових ямах GaAs.…”