2001
DOI: 10.1016/s0921-4526(01)00235-6
|View full text |Cite
|
Sign up to set email alerts
|

Hysteresis in electronic transport through an ensemble of InAs self-assembled quantum dots

Help me understand this report

Search citation statements

Order By: Relevance

Paper Sections

Select...
2
1

Citation Types

0
0
0
3

Year Published

2015
2015
2015
2015

Publication Types

Select...
1

Relationship

0
1

Authors

Journals

citations
Cited by 1 publication
(3 citation statements)
references
References 13 publications
0
0
0
3
Order By: Relevance
“…1 < n . Важливим є те, що значення поверхневої концентрації за-ряджених донорів Завдяки існуванню сучасних нанотехноло-гій [3] змінювати висоту бар'єру та електричні характеристики діодів Шотткі, крім легуван-ням, можна введенням шару КТ у контактую-чий з металом напівпровідник [4]. Крім цього, як було показано в експериментальній роботі [5] введення квантових точок InAs у квантову яму GaAs поблизу границь гетероструктури AlAs/GaAs/AlAs приводить до збільшення на порядок дрейфової швидкості носіїв струму у вузьких квантових ямах GaAs.…”
Section: вступunclassified
See 2 more Smart Citations
“…1 < n . Важливим є те, що значення поверхневої концентрації за-ряджених донорів Завдяки існуванню сучасних нанотехноло-гій [3] змінювати висоту бар'єру та електричні характеристики діодів Шотткі, крім легуван-ням, можна введенням шару КТ у контактую-чий з металом напівпровідник [4]. Крім цього, як було показано в експериментальній роботі [5] введення квантових точок InAs у квантову яму GaAs поблизу границь гетероструктури AlAs/GaAs/AlAs приводить до збільшення на порядок дрейфової швидкості носіїв струму у вузьких квантових ямах GaAs.…”
Section: вступunclassified
“…Струмопереніс в основному визначається параметрами потенціального бар'єру Шотткі в напівпровіднику поблизу межі з металом. Зокрема для арсеніду галію, з середньою концентрацією електронів ) 10 ( Завдяки існуванню сучасних нанотехнологій [3] змінювати висоту бар'єру та електричні характеристики діодів Шотткі, крім легуванням, можна введенням шару КТ у контактуючий з металом напівпровідник [4]. Крім цього, як було показано в експериментальній роботі [5] введення квантових точок InAs у квантову яму GaAs…”
Section: вступunclassified
See 1 more Smart Citation