2009
DOI: 10.1109/jstqe.2009.2015465
|View full text |Cite
|
Sign up to set email alerts
|

High-Speed, Low-Current-Density 850 nm VCSELs

Help me understand this report

Search citation statements

Order By: Relevance

Paper Sections

Select...
2
1

Citation Types

6
86
0
3

Year Published

2011
2011
2018
2018

Publication Types

Select...
5
3

Relationship

0
8

Authors

Journals

citations
Cited by 132 publications
(95 citation statements)
references
References 26 publications
6
86
0
3
Order By: Relevance
“…Следует отметить, что плотность состояний в валентной зоне напряженной квантовой ямы InGaAs при достижении содержания In ∼ 10% практически перестает меняться. В работе [46] было показано, что применение квантовых ям In 0.07 Ga 0.93 As/AlGaAs позволяет повысить частоту эффективной модуляции ВИЛ спектрального диапазона 850 nm с 16.5 до 20 GHz, однако низкая (∼ 10 GHz) паразитная частота отсечки реализованных приборов ограничивала скорость безошибочной модуляции данных на уровне 32 Gbit/s [10].…”
Section: дифференциальное усиление активной областиunclassified
See 1 more Smart Citation
“…Следует отметить, что плотность состояний в валентной зоне напряженной квантовой ямы InGaAs при достижении содержания In ∼ 10% практически перестает меняться. В работе [46] было показано, что применение квантовых ям In 0.07 Ga 0.93 As/AlGaAs позволяет повысить частоту эффективной модуляции ВИЛ спектрального диапазона 850 nm с 16.5 до 20 GHz, однако низкая (∼ 10 GHz) паразитная частота отсечки реализованных приборов ограничивала скорость безошибочной модуляции данных на уровне 32 Gbit/s [10].…”
Section: дифференциальное усиление активной областиunclassified
“…При выборе конструкции активной области на основе КЯ InGaAs следует учитывать несколько нюансов. С одной стороны, применение более глубоких квантовых ям (с высоким содержанием In) обусловливает необходимость уменьшения их толщины для сохранения требуемой длины волны излучения активной области при одновре-менном увеличении общего количества ям и уменьшения толщины барьерных слоев между ними для обеспечения высокого продольного фактора оптического ограничения и требуемого модального усиле-ния [46]. С другой стороны, необходимо принимать во внимание, что уменьшение толщины барьерных слоев между квантовыми ямами со-пряжено не только с вероятностью формирования связанных состояний, но и с возможным образованием ростовых дефектов из-за накопления структурных напряжений.…”
Section: дифференциальное усиление активной областиunclassified
“…This conventional approach to higher repetition frequencies can lead to accelerated device degradation caused by the very high but necessary drive currents [Wes09]. In this work a monolithically integrated concept was investigated to overcome the need for separate modulators at highest speeds while maintaining the established VCSEL technology.…”
Section: Chaptermentioning
confidence: 99%
“…Based on this platform, we propose a system of two laterally coupled cavities, which shows the breaking of parity-time symmetry in vertical cavity structures. The vertical cavity is a rich platform for fundamental physics studies of light-matter interactions such as cavity quantum electrodynamics (QED) 1,2 and cavity polaritons, 3,4 as well as various applications including vertical-cavity surface-emitting lasers (VCSELs), [5][6][7] single-photon light sources, 8 and Si-integrated on-chip lasers. 9 Recently, it has been reported that the dispersion of a vertical cavity, i.e., the relationship between the frequency x and wavevector k of a cavity mode, can be engineered by using the high-index-contrast grating (HCG) as reflector and designing the dispersion of the HCG.…”
mentioning
confidence: 99%