0.7 ) O 2 were studied as a function of the annealing temperature using different conditions in order to perform the cooling process of the oxide films (conventional thermal shock and the slow cooling processes). It was found that surface and electrochemical properties for the oxygen evolution reaction are both affected through the cooling process, being the electrode prepared at 400 o C using the slow cooling process the less susceptible to wear. The Tafel slope obtained in the high overpotential domain was analysed in light of the apparent charge transfer coefficient.Keywords: slow cooling treatment; morphology factor; apparent charge transfer coefficient.
INTRODUÇÃOO sistema eletródico binário Ti/(Ru+Ti)O 2 constitui um dos principais tipos de anodos dimensionalmente estáveis, ADE.1-4 Além da produção de cloro, 5 os ADE também podem ser utilizados em diferentes processos, como é o caso da remoção de poluentes orgânicos recalcitrantes presentes em efluentes aquosos.
6Diferentes métodos já foram propostos para o preparo de eletrodos do tipo ADE. [7][8][9] No entanto, se verifica que o método mais utilizado nos processos industriais é baseado no preparo de ADE policristalinos mediante a decomposição térmica da mistura dos sais precursores sobre o suporte metálico rugoso.1-4 Estudos revelam que a temperatura de decomposição (calcinação) da mistura precursora deve ser suficientemente alta para se obter a formação do filme de óxidos sem, no entanto, comprometer as propriedades mecânicas e elétricas do substrato metálico. 1,[10][11][12][13] Estudos revelam que a origem da influência do ADE sobre a velocidade dos processos eletródicos está relacionada com a presença de efeitos eletrocatalíticos verdadeiros (redução na barreira de ativação para o processo de transferência eletrônica) e aparentes, devida à influência da extensão da área eletroquimicamente ativa na eletrocatálise heterogênea.
11-16A influência da temperatura de calcinação sobre as propriedades superficiais e eletroquímicas de eletrodos do tipo ADE já foi relatada para diferentes sistemas binários e ternários. [15][16][17] No entanto, se verifica nestes casos que o processo adotado na etapa de resfriamento dos filmes é o choque térmico baseado na remoção abrupta dos filmes do forno utilizado no processo de calcinação.A influência do processo de resfriamento lento sobre as propriedades superficiais e eletrocatalíticas de sistemas binários (IrO 2 +Ta 2 O 5 e IrO 2 +Nb 2 O 5 ) foi investigada com base nas reações de desprendimento de oxigênio e ozônio, 14,18 onde se verificou que o processo de resfriamento lento pode modificar de forma considerável estas propriedades, bem como o tempo de vida útil dos eletrodos.No presente artigo relata-se o estudo comparativo das propriedades superficiais e eletroquímicas de eletrodos do tipo ADE de composição nominal Ti/(Ru 0,3 Ti 0,7 )O 2 preparados por decomposição térmica em diferentes temperaturas, onde foram empregados os processos de resfriamento rápido (choque térmico) e lento.
PARTE EXPERIMENTAL Preparo dos eletro...