Hamaker 2: A Toolkit for the Calculation of Particle Interactions and Suspension Stability and its Application to Mullite Synthesis by Colloidal Methods

Contribution of Aggregation to the Growth Mechanism of Seeded Calcium Carbonate Precipitation in the Presence of Polyacrylic Acid

“…A large thermodynamic databank is available, covering most of the periodic table of elements. Finally, colloidal stability calculations using freely available software (Hamaker http://ltp.epfl.ch/page65254.html 30 ) were made to assess the various agglomeration processes that contribute to the growth mechanisms.…”

“…This increase in the interfacial tension gives a high driving force for oriented attachment to minimize their surface interaction with the solution, whereas the low surface charge is insufficient to avoid the agglomeration of the primary nanoparticles. 15,16 Interparticle potential calculations for these 40 to 90 nm primary particles (from ) 0.92 to 1.00) were performed using the Hamaker program (Hamaker http://ltp.epfl.ch/page65254.html 30 ). .…”

Fuerzas de repulsión de aditivos superplastificantes en sistemas de escoria granulada de horno alto en medios alcalinos, desde medidas de AFM a propiedades reológicas

“…Para estudiar las contribuciones relativas de las fuerzas atractivas y repulsivas que actúan sobre las partículas de escoria en suspensión, se realizó una modelización de las fuerzas entre partículas utilizando el programa Hamaker (32). Este software es fácil de utilizar para determinar fuerzas atractivas (van der Waals) y repulsivas (electrostáticas, estéricas).…”

“…La concentración iónica de la disolución de poro y la valencia nominal de la superficie negativamente cargada fueron estimadas en 0,025 M y 1,16, respectivamente, de acuerdo al análisis químico de la disolución previamente publicado (33). Para determinar las fuerzas atractivas de van der Waals se utilizó el modelo efectivo Hamaker y para las repulsiones electrostáticas y estéricas, se utilizó el modelo clásico Hogg Healy Furstenau y el modelo simple de esferas impenetrables (hardwall model), respectivamente (32). En el caso de la repulsión electrostática el plano del potencial zeta fue colocado a la mitad o al final del grosor de la capa de aditivo adsorbido en el caso de aditivos sulfonados (34) (M, NF y V) y a 1.0 nm para el aditivo basado en policarboxilato, cuya adsorción tiene lugar a través de la cadena hidrocarbonada principal cargada negativamente (8).…”

“…form of an online-help, including the scientific background of each model, is included on the website and the recent publication (18,32).…”